当前分类： 集成电路制造工艺员
问题：企业的战略一般由四个要素组成，即经营范围、资源配置、竞争优势以及协同合作，其中协同合作是指企业通过共同的努力达到（）。A、分力之和大于简单相加的结果B、分力之和等于简单相加C、共享开发工具、共享信息D、共同分担着开发失败的风险...
查看答案
问题：继电器如何分类？选用电磁式继电器应考虑的主要参数是哪些？...
问题：数字集成电路的电源滤波应该如何进行？为什么要滤波？...
问题：请对贴片机的四种工作类型进行分析和对比是什么？...
问题：请用四色环标注出电阻：6.8kΩ±5％，47Ω±5％。...
问题：（）就是用功率密度很高的激光束照射半导体表面，使其中离子注入层在极短的时间内达到高温，消除损伤。A、热退火B、激光退火C、连续激光退火D、脉冲激光退火...
问题：二氧化硅层中的钠离子可能来源于（）。A、玻璃器皿B、高温器材C、人体沾污D、化学试剂E、去离子水...
问题：由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的，所以其（）就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。A、刻蚀速率B、选择性C、各向同性D、各向异性...
问题：目前，最广泛使用的退火方式是（）。A、热退火B、激光退火C、电子束退火D、离子束退火...
问题：在对导线镀锡时，应掌握哪些要点？...
问题：常用的焊锡膏有哪些？如何选用焊锡膏？其依据是什么？...
问题：dry vacuum pump的意思是（）。A、扩散泵B、谁循环泵C、干式真空泵D、路兹泵...
问题：对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用（）方法引入到硅片中。A、离子注入B、溅射C、淀积D、扩散...
问题：射程在垂直入射方向的平面内的投影长度称之为（）。A、投影射程B、射程纵向分量C、射程横向分量D、有效射程...
问题：浸焊机是如何分类的？各类的特点是什么？...
问题：用五色环标注电阻：2.00kΩ±1％，39.0Ω±1％。...
问题：离子注入装置的主要部件有（）、分析器、加速聚焦系统等。A、中子源B、离子源C、电子源D、质子源...
问题：在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA的含义是（）。A、化学增强B、化学减弱C、厚度增加D、厚度减少...
问题：用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶（）。A、ARCB、HMDSC、正胶D、负胶...
问题：什么是焊膏？焊接工艺对焊膏提出哪些技术要求？...
