当前分类： 平板显示技术考试
问题：简述TFT制作中的各种薄膜采用的成膜方法。...
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问题：试分析如何减少绝缘膜的针孔及工业上采用的方法。...
问题：描述IPS技术的显示原理。...
问题：简述液晶显示器残像产生的原因。...
问题：试分析在背沟道阻挡结构的第二次光刻中，采用了背曝光为什么还要采用一次曝光？直接使用一次曝光不行吗？...
问题：简述IPS技术的器件结构。...
问题：简述倒置型OLED面临的两个主要问题。...
问题：简述OLED电致发光概述。...
问题：简述干法刻蚀的物理作用和化学作用。...
问题：简述顶发射型OLED的工艺难度。...
问题：简述COF工艺特点。...
问题：非晶硅半导体有什么特点？非晶硅是哪种半导体？...
问题：简述激光转移技术的工艺流程。...
问题：简述PI膜的形成过程。...
问题：简述微晶硅薄膜晶体管中非晶硅薄膜上面有一层金属薄膜Mo的作用，以及工艺中需要采用的特殊技术？...
问题：描述第一个液晶显示器采用的显示原理。...
问题：描述MVA技术的工艺方案。...
问题：简述溅射成膜的原理，并举例说明哪种薄膜采用溅射方法成膜。...
问题：简述3T1C、6T1C驱动电路中各个TFT的作用。...
