名词解释题二次电子及二次电子像
题目
名词解释题
二次电子及二次电子像
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第1题：
二次电子、背散射电子的定义并写出它们成像的特点。
正确答案:二次电子——在入射电子束作用下被轰击出来并离开样品表面的核外电子。成像特点：对试样表面状态敏感，产额正比于1/cosθ，只有在轻元素或超轻元素存在时才与组成成分有关；在收集栅加正压时，具有翻越障碍、呈曲线进入探测器的能力，使得试样凹坑底部或凸起的背面都能清晰成像，而无阴影效应；像的空间分辨率高，适于表面形貌观察。
背散射电子——被样品中的原子核反射回来的一部分入射电子，包括弹性背散射电子和非弹性背散射电子。成像特点：背散射电子能量较高，可直线进入探测器，有明显的阴影效应；产额随原子序数增大而增多；既可以进行表面形貌观察，也可以用来定性地进行成分分析。 -
第2题：
电子枪产生的电子是（）。
- A、入射电子
- B、透射电子
- C、弹性散射电子
- D、二次电子
正确答案:A -
第3题：
判断题扫描电镜的二次电子像的分辨率比背散射电子像更高。A对
B错
正确答案： 对解析： 暂无解析 -
第4题：
问答题二次电子像和背散射电子像在显示表面形貌衬度时有何相同与不同之处？正确答案： 二次电子像：
1）凸出的尖棱，小粒子以及比较陡的斜面处SE产额较多，在荧光屏上这部分的亮度较大。
2）平面上的SE产额较小，亮度较低。
3）在深凹槽底部尽管能产生较多二次电子，使其不易被控制到，因此相应衬度也较暗。
背散射电子像：
1）用BE进行形貌分析时，其分辨率远比SE像低。
2）BE能量高，以直线轨迹逸出样品表面，对于背向检测器的样品表面，因检测器无法收集到BE而变成一片阴影，因此，其图象衬度很强，衬度太大会失去细节的层次，不利于分析。因此，BE形貌分析效果远不及SE，故一般不用BE信号。解析： 暂无解析 -
第5题：
单选题用来显示组织和细胞的内部超微结构像的电子为（）。A入射电子
B透射电子
C弹性散射电子
D二次电子
E吸收电子
正确答案： B解析： 暂无解析 -
第6题：
名词解释题二次电子正确答案： 二次电子是指被入射电子轰击出来的核外电子。二次电子来自表面50-100Å的区域，能量为0-50eV。它对试样表面状态非常敏感，能有效地显示试样表面的微观形貌。解析： 暂无解析 -
第7题：
问答题什么是二次电子？二次电子有什么特点？正确答案： 1、二次电子：入射电子与核外电子碰撞，将核外电子激发到空能级或脱离原子核成为二次电子；
2、特点：能量低：＜50ev；反映试样表面10nm层内的状态；成像分辨率高。二次电子发射系数δ与入射束的能量有关，因此二次电子成像时要选择适当的加速电压。二次电子发射系数和试样表面倾角θ有关，它们之间存在如下关系：δ（θ）=δ0/cosθ；二次电子在试样上方的角分布也服从余弦分布。解析： 暂无解析 -
第8题：
问答题二次电子像反映试样的形貌像用什么衬度解释？正确答案： 二次电子像反映试样的形貌像用形貌衬度来解释。解析： 暂无解析 -
第9题：
单选题X射线管灯丝的作用是（）。A加热
B照明
C发射电子
D吸收二次电子
E发出射线
正确答案： B解析： 暂无解析 -
第10题：
单选题光电作用过程中，发射（）。A电子
B中子
Cα射线
D二次电子
正确答案： D解析： 暂无解析 -
第11题：
问答题二次电子像主要反映试样的什么特征？用什么衬度解释？该衬度的形成主要取决于什么因素？正确答案： （1）二次电子像反映试样表面的形貌特征——形貌像。
（2）形貌像用形貌衬度来解释。
（3）形貌衬度的形成主要取决于试样表面相对于入射电子束的倾角。解析： 暂无解析 -
第12题：
问答题二次电子像的衬度和背射电子像的衬度各有啥特点？正确答案： 二次：特别适用于显示形貌衬度。一般来说，凸出的尖棱、小粒子、较陡斜面二次电子产额多，图像亮；平面上二次电子产额小，图像暗；凹面图像暗。（二次电子像形貌衬度的分辨率比较高且不易形成阴影）
背散射电子：无法收集到背散射电子而成一片阴影，图像衬度大，会掩盖许多细节。解析： 暂无解析 -
第13题：
何谓二次电子？其危害是什么？
正确答案: 当阴极电子束高速轰击靶面产生X线时，靶面因反射而释放出部分电子，称为二次电子。
二次电子的危害有：
①撞击到玻璃管壳内壁上，使玻璃温度升高而产生气体，降低管内真空度；
②部分二次电子附着在玻璃壁上，使玻璃壁负电位增加，造成管壁电位分布不均匀，其结果使管壁产生纵向拉应力，易致玻璃管壁的损坏；
③二次电子是散乱的，当它再次轰击靶面时，会产生散射X线而使X线成像质量降低。 -
第14题：
光电作用过程中，发射（）。
- A、电子
- B、中子
- C、α射线
- D、二次电子
正确答案:A -
第15题：
问答题二次电子的成像和背散射电子的成像各有什么特点？正确答案： （1）二次电子的分辨率较高，扫描电镜的分辨率一般就是二次电子分辨率。二次电子产额随原子序数的变化不大，所以利用二次电子成像虽具有较高的分辨率，但不能对物质做定性分析。
（2）背散射电子主要用于扫描电镜成像，其特点：
①对样品物质的原子序数敏感；
②分辨率及信号收集率较低。解析： 暂无解析 -
第16题：
问答题光电发射和二次电子发射有哪些不同？简述光电倍增管的工作原理。正确答案： 光电发射是光轰击材料使电子逸出，二次电子发射是电子轰击材料，使新的电子逸出。
1）光子透过入射窗口入射在光电阴极K上。
2）光电阴极电子受光子激发，离开表面发射到真空中。
3）光电子通过电子加速和电子光学系统聚焦入射到第一倍增极D1上，倍增极将发射出比入射电子数目更多的二次电子，入射电子经N级倍增极倍增后光电子就放大N次方倍。
4）经过倍增后的二次电子由阳极P收集起来，形成阳极光电流，在负载RL上产生信号电压解析： 暂无解析 -
第17题：
问答题何谓二次电子？其危害是什么？正确答案： 当阴极电子束高速轰击靶面产生X线时，靶面因反射而释放出部分电子，称为二次电子。
二次电子的危害有：
①撞击到玻璃管壳内壁上，使玻璃温度升高而产生气体，降低管内真空度；
②部分二次电子附着在玻璃壁上，使玻璃壁负电位增加，造成管壁电位分布不均匀，其结果使管壁产生纵向拉应力，易致玻璃管壁的损坏；
③二次电子是散乱的，当它再次轰击靶面时，会产生散射X线而使X线成像质量降低。解析： 暂无解析 -
第18题：
问答题二次电子有什么特点？正确答案： 特点：能量低：＜50ev；反映试样表面10nm层内的状态；成像分辨率高。
二次电子发射系数δ与入射束的能量有关，因此二次电子成像时要选择适当的加速电压。二次电子发射系数和试样表面倾角θ有关，它们之间存在如下关系：
δ（θ）=δ0/cosθ；二次电子在试样上方的角分布也服从余弦分布。解析： 暂无解析 -
第19题：
名词解释题二次电子及二次电子像正确答案： 在电子束与样品物质发生作用时，非弹性散射使原子核外的电子可能获得高于其电离的能量，挣脱原子核的束缚，变成了自由电子，那些在样品表层，且能量高于材料逸出功的自由电子可能从样品表面逸出，成为真空中的自由电子，称之为二次电子。在扫描电子显微镜中，二次电子对样品所形成的像成为二次电子像。解析： 暂无解析 -
第20题：
问答题简述扫描电镜中二次电子像的成像原理。正确答案： 二次电子像又叫表向形貌衬度，由于来照射样品表面时，激发表层原子产生二次电子，二次电子——与表向形貌特点密切相关，由于各处表向形貌不同，二次电子的——不同，二次电子的——不同，——信号强度也不同，在显示器上显示具有明暗——的衬度像。解析： 暂无解析 -
第21题：
多选题在扫描电镜分析中（）A成分像能反映成分分布信息，形貌像和二次电子像反映形貌信息
B所有扫描电镜像，只能反映形貌信息
C形貌像中凸尖和台阶边缘处最亮，平坦和凹谷处最暗
D扫描电镜分辨率比透射电镜高
正确答案： C,D解析： 暂无解析 -
第22题：
问答题二次电子像主要反映试样的什么特征？正确答案： 二次电子像反映试样表面的形貌特征——形貌像。解析： 暂无解析 -
第23题：
填空题二次电子的产额随着样品的倾斜度的变化而变化，倾斜度越小，二次电子产额越（）。正确答案： 低解析： 暂无解析 -
第24题：
问答题二次电子像景深很大，样品凹坑底部都能清楚地显示出来，从而使图像的立体感很强，其原因何在？正确答案： 二次电子像立体感很强这是因为
1）凸出的尖棱，小粒子以及比较陡的斜面处SE产额较多，在荧光屏上这部分的亮度较大。
2）平面上的SE产额较小，亮度较低。
3）在深的凹槽底部尽管能产生较多二次电子，使其不易被控制到，因此相应衬度也较暗。解析： 暂无解析