简述微晶硅薄膜晶体管中非晶硅薄膜上面有一层金属薄膜Mo的作用,以及工艺中需要采用的特殊技术?

题目

简述微晶硅薄膜晶体管中非晶硅薄膜上面有一层金属薄膜Mo的作用,以及工艺中需要采用的特殊技术?


相似考题
参考答案和解析
正确答案:金属Mo薄膜起到光热转换的作用,使薄膜晶化为微晶硅薄膜。晶化后进行金属MO层的光刻形成源漏电极。
制作工艺流程是先进行有源岛位置处的Mo岛和Mo栅线的光刻,再溅射AlNd金属及光刻AlNd栅线。保证了金属线的低电阻率,又可以获得稳定、高结晶度的微晶硅薄膜,还能降低缺陷提高成品率。
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  • 第1题:

    简述多晶硅薄膜晶体管驱动OLED的优点。


    正确答案:优点:1)具有较高的载流子迁移率;
    2)多晶硅TFT阈值电压漂移也要比非晶硅大大减小,稳定性高,更适合作为AMOLED显示的驱动器件;
    3)由于迁移率高,还可以减小TFT器件的尺寸,可以保证一样的开态电流,但像素开口率提高;
    4)容易制作出n沟道和p沟道的TFT器件,实现周边驱动的CMOS集成电路。

  • 第2题:

    简述采用5次光刻的多晶硅薄膜晶体管的工艺流程的难点与特点。


    正确答案:5次光刻分别为源漏电极、有源岛、栅极、过孔、ITO像素电极。
    第一次光刻在玻璃基板上沉积一层基层薄膜,溅射源漏金属层,光刻出源漏电极及信号线。第二次光刻用PECVD方法连续沉积介质层、非晶硅层,利用高温环境去氢处理,再激光晶化转变成多晶硅薄膜。光刻出有源岛图形。第三次光刻先用PECVD方法沉积绝缘膜,相当于第二层介质层。再用溅射栅极金属层,光刻出栅极及扫描线。利用栅极掩膜遮挡离子注入形成源区和漏区。
    第四次光刻用PECVD方法沉积钝化层,相当于第三层介质层,保护TFT。光刻形成需要的孔,让下面金属曝露出来及形成相应的连接。孔有两种:第一种是需要连续刻蚀第三层介质层、第二层介质层、第一层介质层,露出源漏金属层;第二种是刻蚀第三层介质层,露出栅极金属层。
    第五次光刻形成像素电极。并且用像素电极与多晶硅的源区和漏区接触,与源漏电极相连。
    存储电容为传统结构,由栅极金属层和像素电极ITO,中间夹着第三介质层构成。

  • 第3题:

    简述非晶硅薄膜晶体管的工作原理。


    正确答案:当栅极上不加电压或加负电压时,在源到漏之间沟道没有形成,TFT处于关态。当栅极施加正电压到足够大,在绝缘层与a-Si:H层的界面附近,非晶硅半导体一侧感应出等量异号的负电荷形成电子的积累,形成导电沟道。当施加漏源加电压时就会有电流从沟道流动。

  • 第4题:

    采用晶体硅组件的示范项目补助标准为()元/瓦,采用非晶硅薄膜组件的为()元/瓦。

    • A、9;7
    • B、8;7
    • C、8;6
    • D、9;8

    正确答案:D

  • 第5题:

    全球各类主要太阳能电池中,转换效率最高的是()。

    • A、薄膜电池
    • B、聚光电池
    • C、晶体硅电池
    • D、非晶硅电池

    正确答案:B

  • 第6题:

    非晶硅薄膜组件效率不低于()。

    • A、0.15
    • B、0.1
    • C、0.14
    • D、0.06

    正确答案:D

  • 第7题:

    薄膜电池分为:()和非晶硅薄膜电池。


    正确答案:多晶硅薄膜电池

  • 第8题:

    目前比较成熟且广泛应用的是()电池。

    • A、晶硅类
    • B、薄膜类
    • C、化合物类
    • D、新概念类

    正确答案:A

  • 第9题:

    单选题
    单晶硅、多晶硅、非晶硅和铜铟镓硒薄膜电池等是太阳能()技术的最基本元件。
    A

    热能

    B

    光热发电

    C

    电磁辐射

    D

    光伏发电


    正确答案: C
    解析: 暂无解析

  • 第10题:

    单选题
    以下所列物质中哪种不是目前薄膜晶体管液晶显示器面板的TFT的半导体材料:()。
    A

    非晶硅(a-Si)

    B

    低温多晶硅(LTPS)

    C

    金属氧化物(Oxide)

    D

    单晶硅(Si)


    正确答案: D
    解析: 暂无解析

  • 第11题:

    单选题
    从不同技术路线市场份额看,()市场份额超过85%。
    A

    薄膜电池

    B

    聚光电池

    C

    晶体硅电池

    D

    非晶硅电池


    正确答案: B
    解析: 暂无解析

  • 第12题:

    多选题
    DSA非晶硅平板探测器的构成。()
    A

    碘化铯构成的闪烁体层

    B

    CCD层

    C

    信号读出电路

    D

    石英玻璃衬体

    E

    非晶硅薄膜晶体管阵列层


    正确答案: C,B
    解析: 非晶硅平板探测器由碘化铯构成的闪烁体层、非晶硅阵列层、信号读出电路和石英玻璃衬体等部分组成,是一种三层结构:表面一层为碘化铯闪烁体材料,其中碘化铯光柱达20μm,由连续排列的针状碘化铯晶体构成,针柱的直径约6μm,外表面由重元素铊包裹以形成可见光波导减少漫射;第二层是以非晶硅为材料的光电二极管电路;最底层为TFT(大面积薄膜晶体管阵列)电荷信号读出电路(即电荷收集阵列电路)。当然还有起支持作用的玻璃层。

  • 第13题:

    简述低温多晶硅薄膜晶体管特点。


    正确答案:1)高迁移率;
    2)容易p型和n型掺杂;
    3)自对准结构;
    4)抗光干扰能力强;
    5)抗电磁干扰能力强。

  • 第14题:

    简述低温多晶硅薄膜晶体管组成的CMOS驱动电路的优点。


    正确答案:组成的CMOS驱动电路的优点:
    1)利用自对准工艺,寄生电容降到最低,响应速度很快;
    2)较高的迁移率以及沟道长度的微细化,有利于进一步提高响应速度;
    3)在周边驱动的CMOS电路中,利用p-Si TFT高开态电流和高迁移率特性,不受关态泄漏电流的影响,使得p-Si TFT非常适合制作周边驱动电路;
    4)沟道长度微细化后,TFT尺寸缩小,周边驱动电路的面积缩小,非常适合高精度、高清晰的显示;
    5)在考虑漏极的耐压极限后,常规的p-Si TFT的沟道长度设计为4μm。采用LDD结构后,耐压能力提高,沟道长度可以设计到1.5~2μm。

  • 第15题:

    单晶硅、多晶硅、非晶硅和铜铟镓硒薄膜电池等是太阳能()技术的最基本元件。

    • A、热能
    • B、光热发电
    • C、电磁辐射
    • D、光伏发电

    正确答案:D

  • 第16题:

    从不同技术路线市场份额看,()市场份额超过85%。

    • A、薄膜电池
    • B、聚光电池
    • C、晶体硅电池
    • D、非晶硅电池

    正确答案:C

  • 第17题:

    以下哪些是光伏发电的光伏材料?()

    • A、单晶硅
    • B、多晶硅
    • C、非晶硅
    • D、微晶硅

    正确答案:A,B,C,D

  • 第18题:

    太阳能光伏发电的最基本元件有()

    • A、太阳能电池(片)
    • B、单晶硅
    • C、多晶硅
    • D、非晶硅
    • E、铜铟镓硒薄膜电池

    正确答案:A,B,C,D,E

  • 第19题:

    微晶硅太阳能薄膜电池的厚度通常为()

    • A、2-3um
    • B、3-4um
    • C、1-2um
    • D、4-5um

    正确答案:A

  • 第20题:

    多选题
    以下哪些是光伏发电的光伏材料?()
    A

    单晶硅

    B

    多晶硅

    C

    非晶硅

    D

    微晶硅


    正确答案: C,D
    解析: 暂无解析

  • 第21题:

    单选题
    全球各类主要太阳能电池中,转换效率最高的是()。
    A

    薄膜电池

    B

    聚光电池

    C

    晶体硅电池

    D

    非晶硅电池


    正确答案: C
    解析: 暂无解析

  • 第22题:

    单选题
    集点矩阵层中包含的TFT是(  )。
    A

    薄膜晶体管

    B

    发光晶体管

    C

    非晶硒

    D

    非晶硅

    E

    氢化非晶硅


    正确答案: E
    解析:
    集点矩阵层中包含TFT(thin film transistor,薄膜晶体管)、储能电容。

  • 第23题:

    多选题
    用于太阳能电池的半导体材料有()
    A

    单晶硅

    B

    多晶硅

    C

    非晶硅

    D

    微晶硅


    正确答案: A,D
    解析: 暂无解析