关于正胶和负胶在显影时的特点，下列说法正确的是（）。A、负胶的感光区域溶解B、正胶的感光区域溶解C、负胶的感光区域不溶解D、正胶的感光区域不溶解E、负胶的非感光区域溶解
题目
关于正胶和负胶在显影时的特点，下列说法正确的是（）。
- A、负胶的感光区域溶解
- B、正胶的感光区域溶解
- C、负胶的感光区域不溶解
- D、正胶的感光区域不溶解
- E、负胶的非感光区域溶解
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第1题：
解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
正确答案:正性光刻把与掩膜版上相同的图形复制到硅片上，负性光刻把与掩膜版上图形相反的图形复制到硅片表面，这两种基本工艺的主要区别在于所用的光刻胶的种类不同。
正刻胶在进行曝光后留下来的的光刻胶在曝光前已被硬化，它将留在硅片表面，作为后步工艺的保护层，不需要改变掩膜版的极性，并且负性光刻胶在显影时会变形和膨胀，所以正胶是普遍使用的光刻胶传统的I线光刻胶，深紫外光刻胶。 -
第2题：
感光胶分为正性胶和负性胶，简述它们是如何定义。
正确答案: （1）负性胶这种胶在曝光前对某些有机溶剂是可溶的，曝光后发生光聚合反应，不溶于有机溶剂。当用它进行光刻时，在衬底表面将得到与光刻掩模版遮光图案完全相反的图形，故称之为负性胶。
（2）正性胶这种胶在曝光前对某些有机溶剂是不可溶的，而曝光后却变成可溶的，使用它进行光刻时，在衬底表面将得到与光刻掩模版遮光图案完全相同的图形，故称之为正性胶。 -
第3题：
以感光乳剂修补版面后应（）
- A、干后再行晒版
- B、吹干即可印刷
- C、不能用感光乳剂当补版胶
- D、与补版胶一样
正确答案:A -
第4题：
尼龙感光胶是用（）来显影。
- A、溶剂
- B、酒精
- C、清洗剂
- D、水
正确答案:B -
第5题：
用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶（）。
- A、ARC
- B、HMDS
- C、正胶
- D、负胶
正确答案:C -
第6题：
什么是感光胶？
正确答案:在一定波长的光照射下，起光化学反应并在丝网上形成坚固的胶膜。 -
第7题：
阳图PS版的图文基础是（）
- A、光聚合物
- B、重氮感光树脂
- C、银盐感光胶
正确答案:B -
第8题：
填空题光刻工艺的分辨率决定于：（）和曝光、显影、刻蚀条件的正确控制。正胶的分辨率（）于负胶的分辨率；光刻胶越薄，分辨率越（）。正确答案： 光刻机的分辨率、光刻胶的种类、光刻胶的厚度、光刻胶的对比度,高,高解析： 暂无解析 -
第9题：
问答题光刻胶正胶和负胶的区别是什么？正确答案： 正性光刻胶受光或紫外线照射后感光的部分发生光分解反应，可溶于显影液，未感光的部分显影后仍然留在晶圆的表面，它一般适合做长条形状；负性光刻胶的未感光部分溶于显影液中，而感光部分显影后仍然留在基片表面，它一般适合做窗口结构，如接触孔、焊盘等。解析： 暂无解析 -
第10题：
填空题光刻胶的三种主要成分是：（）。正胶的感光剂是（），曝光使其（），正胶的曝光区在显影后（）； 曝光使负胶的感光剂（），使曝光区在显影后（）。正确答案： 感光剂、基体材料和溶剂,重氮醌,长链分子断裂,去除,交联,保留解析： 暂无解析 -
第11题：
填空题曝光后显影时感光的胶层没有溶解，没有感光的胶层溶解，这种胶为（）（正/负）胶。正确答案： 负解析： 暂无解析 -
第12题：
问答题显影时，正胶和负胶的哪个区发生溶解？而哪个区则不会溶解。正确答案： 正胶的曝光区和负胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解，而正胶的非曝光区和负胶的曝光区的光刻胶则不会在显影液中溶解（或很少溶解）。解析： 暂无解析 -
第13题：
有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。
- A、负胶受显影液的影响比较小
- B、正胶受显影液的影响比较小
- C、正胶的曝光区将会膨胀变形
- D、使用负胶可以得到更高的分辨率
- E、负胶的曝光区将会膨胀变形
正确答案:A,C,D -
第14题：
陶瓷贴花纸制作过程中，正确的制作流程为（）。
- A、绷网——涂感光胶——冲洗——晒版——充分曝光——研磨颜料——手工印刷——涂封面油
- B、绷网——涂感光胶——晒版——冲洗——充分曝光——研磨颜料——手工印刷——涂封面油
- C、绷网——涂感光胶——冲洗——晒版——充分曝光——涂封面油——研磨颜料——手工印刷
- D、绷网——冲洗——晒版——涂感光胶——充分曝光——研磨颜料——手工印刷——涂封面油
正确答案:B -
第15题：
有关于确定来图设计产品的表面处理方法错误的是（）
- A、目前，玩具塑胶件已经极少用模塑注射成型
- B、脱脂的目的是为了除去模腔表面加工油污，提高其对涂膜的黏结能力
- C、涂敷感光胶，是用喷射法或电胶机，把溶液状的感光树脂均匀地涂覆于模具的装饰加工表面，然后加热烘干
- D、曝光是使照相花纹底片与涂敷感光胶后的模具型腔表面紧密贴合，让光线通过照相底片使感光胶层感光，发生光化学反应，导致感光胶层发生溶解度变化
正确答案:A -
第16题：
关于正胶和负胶的特点，下列说法正确的是（）。
- A、正胶在显影时不会发生膨胀，因此分辨率高于负胶
- B、正胶的感光区域在显影时不溶解，负胶的感光区域在显影时溶解
- C、负胶在显影时不会发生膨胀，因此分辨率不会降低
- D、正胶的感光区域在显影时溶解，负胶的感光区域在显影时不溶解
- E、负胶在显影时会发生膨胀，导致了分辨率的降低
正确答案:A,C,E -
第17题：
简述重氮感光胶的组成。
正确答案: 重氮感光胶的组成：
感光剂：重氮盐和重氮树脂；
成膜剂：聚乙烯醇、聚醋酸乙烯酯、丙烯酸脂类树脂等；
着色剂：水溶性染料；
表面活性剂（分散剂）：降低感光胶的表面张力；
消泡剂：消除感光胶中含有的气泡。 -
第18题：
感光胶
正确答案: 在一定波长照射下，起光化学反应并在丝网上形成坚固的胶膜。 -
第19题：
问答题简述正胶和负胶显影效果正确答案： 正性光刻胶：曝光区域溶解于显影液，显影后图形与掩模版图形一样
负性光刻胶：曝光区域不溶解于显影液，显影后图形与掩模版图形相反解析： 暂无解析 -
第20题：
问答题简述正性胶和负性胶的作用原理。正确答案： 光致抗蚀剂根据光照后溶解度变化的不同分为正胶和负胶。
负性光刻胶是在光照下，涂层的溶解度下降，在溶解过程中（也称为显影过程）被保留下来，在化学腐蚀过程中（也称为刻蚀过程）保护氧化层。
正性光刻胶的性能正好相反，感光胶被光照后溶解度增加，在显影过程中被除去，其所覆盖部分在刻蚀过程中被腐蚀掉。解析： 暂无解析 -
第21题：
问答题简要说明正胶和负胶的关光刻原理与特性。正确答案： 原理：临时性地涂覆在硅片表面，通过曝光转移设计图形到光刻胶上。
负胶特性：
1曝光后不可溶解
2显影时未曝光的被溶解
3便宜
正胶特性：
1曝光后可溶解
2显影时曝光的被溶解
3高分辨率解析： 暂无解析 -
第22题：
问答题简述正胶和负胶区别。正确答案： 正胶：曝光的部分易溶解，占主导地位；
负胶：曝光的部分不易溶解。负胶的粘附性和抗刻蚀性能好，但分辨率低。解析： 暂无解析 -
第23题：
填空题曝光后显影时感光的胶层溶解了，没有感光的胶层不溶解留下了，这种胶称为（）胶。正确答案： 正解析： 暂无解析