参考答案和解析
正确答案: 玻璃表面刻花是将激光器通过透镜聚焦到玻璃表面,玻璃吸收光能后,将光能转化为热能,使玻璃表面加热、熔化、汽化,在剧烈的汽化过程中,产生较大的蒸汽压力,此压力排挤和压缩熔融玻璃,造成了溅射现象。此时溅射速度很快,达到340m/s,形成很大的反冲,在玻璃表面造成定形冲击波,在冲击波的作用下,使表面产生微裂纹并剥落;另外由于激光的局部加热,微区温度很高,而附近区域仍处于室温,这种温度不均所引起的表面热膨胀不一致,产生很大的应力,也引起玻璃表面裂纹和剥落,也引起玻璃表面裂纹和剥落,达到表面刻花的目的。
更多“叙述玻璃表面激光刻花的原理?”相关问题
  • 第1题:

    在液晶器件制造的工艺辅助材料中,切割刀轮的作用是()。

    • A、在玻璃表面划出刀痕
    • B、割断玻璃
    • C、在玻璃上做光刻标记
    • D、磨边

    正确答案:A

  • 第2题:

    中空玻璃的露点试验原理:放置露点仪后玻璃表面局部冷却,当达到露点温度后,内部水气在冷点部位结露。


    正确答案:正确

  • 第3题:

    对于使用彩色花泥的叙述,下列何者有误?()

    • A、彩色花泥可以提高花艺作品的观赏性
    • B、使用玻璃器皿制作花艺作品时,可使用彩色花泥
    • C、如使用彩色花泥制作花艺作品,可省去遮掩花泥的工序
    • D、彩色花泥与普通花泥的作用一样

    正确答案:D

  • 第4题:

    削扁镗杆的减振原理是()。

    • A、镗杆横截面积加大
    • B、镗杆截面矩加大
    • C、基于再生自激振动原理
    • D、基于振型偶合自激振动原理

    正确答案:D

  • 第5题:

    在装饰类玻璃中,()一般多用于门窗、屏风类装饰。

    • A、釉面玻璃
    • B、彩色裂花玻璃
    • C、镜玻璃
    • D、磨砂玻璃
    • E、刻花玻璃

    正确答案:A,D

  • 第6题:

    问答题
    简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。

    正确答案: 光刻胶是一种有机化合物,它受紫外线曝光后在显影液中的溶解度发生显著变化,而未曝光的部分在显影液中几乎不溶解。
    光刻胶的用途:①做硅片上的图形模版(从掩膜版转移到硅片上的图形);
    ②在后续工艺中,保护下面的材料(例如刻蚀或离子注入)。
    光刻对光刻胶的要求:①分辨率高;
    ②对比度好;
    ③敏感度好;
    ④粘滞性好;
    ⑤粘附性好;
    ⑥抗蚀性好;
    ⑦颗粒少。
    解析: 暂无解析

  • 第7题:

    问答题
    什么是光刻?光刻的主要流程有哪些?

    正确答案: 光刻就是通过一系列生产步骤,将晶圆薄膜的特定部分去除的工艺。
    流程有晶圆涂光刻胶、曝光、显影、烘干。
    解析: 暂无解析

  • 第8题:

    单选题
    作为钢化、夹层、镀膜、中空等深加工玻璃的原片是( )。
    A

    平板玻璃

    B

    乳花玻璃

    C

    刻花玻璃

    D

    冰花玻璃


    正确答案: A
    解析: 暂无解析

  • 第9题:

    判断题
    最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
    A

    B


    正确答案:
    解析: 暂无解析

  • 第10题:

    填空题
    集成电路制造工艺技术主要包括:热工艺、()、光刻、清洗与刻蚀、金属化、表面平坦化。

    正确答案: 离子注入
    解析: 暂无解析

  • 第11题:

    问答题
    简单叙述一下pn结隔离的NPN晶体管的光刻步骤?

    正确答案: 第一次光刻:N+隐埋层扩散孔光刻
    第二次光刻:P隔离扩散孔光刻
    第三次光刻:P型基区扩散孔光刻
    第四次光刻:N+发射区扩散孔光刻
    第五次光刻:引线孔光刻
    第六次光刻:反刻铝
    解析: 暂无解析

  • 第12题:

    问答题
    什么是光刻加工技术?试简述光刻加工的原理和工艺流程。

    正确答案: 光刻加工技术就是用光刻加工方法,刻蚀出规定的图形的技术。
    光刻加工是用照相复印的方法将光刻掩膜上的图形印制在涂有光致抗蚀剂(光刻胶)的
    薄膜或基材表面,然后进行选择性腐蚀,刻蚀出规定的图形。
    工艺流程是:涂胶、曝光、显影、坚膜、腐蚀及去胶。
    解析: 暂无解析

  • 第13题:

    LCD集成度就是一片ITO玻璃上光刻电极的个数。()


    正确答案:错误

  • 第14题:

    比较公认的自激振动的激振机理有哪些?()

    • A、再生原理
    • B、振型耦合原理
    • C、负摩擦原理
    • D、切削力滞后原理

    正确答案:A,B,C,D

  • 第15题:

    晶片经过显影后进行坚膜,坚膜的主要作用有()。

    • A、除去光刻胶中剩余的溶剂
    • B、增强光刻胶对晶片表面的附着力
    • C、提高光刻胶的抗刻蚀能力
    • D、有利于以后的去胶工序
    • E、减少光刻胶的缺陷

    正确答案:A,B,C,E

  • 第16题:

    作为钢化、夹层、镀膜、中空等深加工玻璃的原片是( )。

    • A、平板玻璃
    • B、乳花玻璃
    • C、刻花玻璃
    • D、冰花玻璃

    正确答案:A

  • 第17题:

    光纤是用()作为主要原料的一种透明度很高的介质材料,广泛用于通信和传感器。

    • A、光刻玻璃
    • B、石英玻璃
    • C、光刻硅
    • D、钛铝合金

    正确答案:B

  • 第18题:

    问答题
    什么叫做光刻,光刻有何目的?

    正确答案: 定义:光刻是图形复印与腐蚀作用相结合,在晶片表面薄膜上制备图形的精密表面工艺技术。
    目的:在介质薄膜(二氧化硅、氮化硅、多晶硅等)、金属薄膜或金属合金薄膜上面刻蚀出与掩膜版完全对应的几何图形,从而实现选择性扩散和金属薄膜布线的目的。
    解析: 暂无解析

  • 第19题:

    判断题
    中空玻璃的露点试验原理:放置露点仪后玻璃表面局部冷却,当达到露点温度后,内部水气在冷点部位结露。
    A

    B


    正确答案:
    解析: 暂无解析

  • 第20题:

    多选题
    在装饰类玻璃中,()一般多用于门窗、屏风类装饰。
    A

    釉面玻璃

    B

    彩色裂花玻璃

    C

    镜玻璃

    D

    磨砂玻璃

    E

    刻花玻璃


    正确答案: B,D
    解析: 暂无解析

  • 第21题:

    问答题
    简要说明正胶和负胶的关光刻原理与特性。

    正确答案: 原理:临时性地涂覆在硅片表面,通过曝光转移设计图形到光刻胶上。
    负胶特性:
    1曝光后不可溶解
    2显影时未曝光的被溶解
    3便宜
    正胶特性:
    1曝光后可溶解
    2显影时曝光的被溶解
    3高分辨率
    解析: 暂无解析

  • 第22题:

    问答题
    简述接触式光刻、接近式光刻及投影式光刻的优缺点。

    正确答案: 接触式光刻:分辨率较高,但是容易造成掩模版和光刻胶膜的损伤。
    采用接触式光刻很难得到没有缺陷的超大规模集成电路芯片,所以接触式光刻技术一般只适用于中小规模集成电路。
    接近式曝光:在硅片和掩膜版之间有一个很小的间隙(10~25um),可以大大减小掩膜版的损伤。分辨率较低,一般在2~4微米之间,因此接近式光刻机只能装配在特征尺寸交大的集成电路生产线中。
    投影式曝光:利用透镜或反射镜将掩膜版上的图形投影到衬底上的曝光方法,目前用的最多的曝光方式。
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  • 第23题:

    问答题
    叙述玻璃表面激光刻花的原理?

    正确答案: 玻璃表面刻花是将激光器通过透镜聚焦到玻璃表面,玻璃吸收光能后,将光能转化为热能,使玻璃表面加热、熔化、汽化,在剧烈的汽化过程中,产生较大的蒸汽压力,此压力排挤和压缩熔融玻璃,造成了溅射现象。此时溅射速度很快,达到340m/s,形成很大的反冲,在玻璃表面造成定形冲击波,在冲击波的作用下,使表面产生微裂纹并剥落;另外由于激光的局部加热,微区温度很高,而附近区域仍处于室温,这种温度不均所引起的表面热膨胀不一致,产生很大的应力,也引起玻璃表面裂纹和剥落,也引起玻璃表面裂纹和剥落,达到表面刻花的目的。
    解析: 暂无解析