目前,制备低温多晶硅常用的方法是什么?

题目
目前,制备低温多晶硅常用的方法是什么?

相似考题

1.低温多晶硅TFT技术的最大优势是什么?

2.6、多晶硅的制备方法（）和（）

3.10、工业上最常用的多晶硅制备方法是（）。A．直拉法B．沉积法C．区熔法D．三氯氢硅的氢还原法

4.目前常用的浸出方法有哪些?主要特点是什么?

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  • 第1题：

    多晶硅薄膜通常采取哪种方法制备：

    A．APCVD

    B．磁控溅射

    C．LPCVD

    D．VPE


    LPCVD

  • 第2题：

    直熔法制备多晶硅需要（）坩埚


    错误

  • 第3题：

    1、所谓多晶硅薄膜的间接制备法，就是先制备得到（）薄膜，再通过不同的晶化技术，将其晶化为多晶硅薄膜。

    A．非晶硅

    B．单晶硅

    C．微晶硅

    D．多晶硅


    液相外延（LPE）法;化学气相沉积（ CVD ）法;等离子增强化学气相沉积（ PECVD ）法;低压化学气相沉积（ LPCVD ）

  • 第4题：

    多晶硅薄膜的间接制备法是指先制备得到 晶硅薄膜，再通过不同的晶化技术，将其晶化为多晶硅薄膜。


    液相外延（LPE）法;化学气相沉积（ CVD ）法;等离子增强化学气相沉积（ PECVD ）法;低压化学气相沉积（ LPCVD ）

  • 第5题：

    14、多晶硅薄膜的制备方法主要可以分为两大类，即直接制备法和 制备法。


    LPCVD

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