利用高能氩离子轰击靶材,靶材原子被撞击,脱离出来,在硅片表面形成薄膜的工艺过程是
第1题:
A.Fe
B.Cu
C.W
D.Cr
第2题:
一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。
第3题:
薄膜衣中加入增塑剂的机制是()
第4题:
X射线管中轰击靶的电子运动速度取决于()
第5题:
Χ射线管中轰击靶的电子运动的速度取决于()
第6题:
用于医疗诊断方面的X射线管,其阳极靶较厚,称厚靶X射线管。当高能电子轰击靶面时,由于原子结构的“空虚性”,入射的高速电子不仅与靶面原子相互作用辐射X射线,而且还穿透到靶物质内部一定的深度,不断地与靶原子作用,直至将电子的能量耗尽为止。因此,除了靶表面辐射X射线外,在靶的深层,也能向外辐射X射线。这种愈靠近阳极,X射线强度下降愈多的现象,就是所谓的“足跟”效应,也称阳极效应。由于诊断X射线管靶倾角小,X射线能量不高,足跟效应非常显著。X射线辐射强度下降得越多越靠近()
第7题:
阳极靶被电子撞击的部分叫()。
第8题:
()专指薄膜形成的过程中,并不消耗晶片或底材的材质。
第9题:
工业X射线照相用的X射线管多数选用钨作靶材的原因主要是()
第10题:
提高衣层的柔韧性,增加其抗撞击的强度
降低膜材的晶型转变温度
降低膜材的流动性
增加膜材的表观黏度
第11题:
靶材
管电流
管电压
第12题:
靶材的原子序数
管电压
.管电流
灯丝电流
第13题:
溅射法是由()轰击靶材表面,使靶原子从靶表面飞溅出来淀积在衬底上形成薄膜。
第14题:
下面哪一种薄膜工艺中底材会被消耗()。
第15题:
决定X射线管靶材适用性的两个因素是()
第16题:
标识X射线的波长与()有关
第17题:
X射线管中高能电子在撞击靶的过程中,极大部分的电子动能转化成热能,因此,阳极靶的温度非常高,必须用冷却水冷却。冷却靶用的水必须是高纯水。
第18题:
只有当X射线管的()超过靶材临界激发电势时,才出现靶材的()光谱。
第19题:
决定Χ射线管靶材适用性的两个因素是()。
第20题:
微囊在靶区的浓集主要取决于囊材的性质,而与微囊的大小无关。
第21题:
标识X射线的波长与()有关。
第22题:
靶材的原子序数
管电压
管电流
灯丝电流
第23题:
提高衣层的柔韧性,增加其抗撞击的强度
降低膜材的流动
降低膜材的晶型转变温度
增加膜材的表观黏度
使膜材具有挥发性
第24题:
靶材的原子序数
管电压
管电流
灯丝电压