无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受《集成电路布图设计条例》保护。( )

题目

无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受《集成电路布图设计条例》保护。( )

相似考题

1.在我国，集成电路布图设计专有权的保护期为（）.A.10年，自布图设计创作完成之日起计算B.15年，自布图设计登记申请之日起计算C.15年，自布图设计首次投入商业利用之日起计算D.10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算

2.依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列表述中不正确的表述是：（）A.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权B.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。C.外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。D.中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计，可以依照本条例享有布图设计专有权。

3.在我国，布图设计专有权的保护期为几年？无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起几年后，不再受保护？

4.依据我国《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路知识产权条约》的规定，下列表述中正确的是（）A.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。

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  • 第1题：

    外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计专有权。( )


    正确答案：正确

  • 第2题：

    以下符合受保护的布图设计专有权的保护条件的有（ ）

    A.布图设计自创完成之日起15年内。

    B.未经布图设计权利人许可复制独创性部分。

    C.未经 布图设计权利人许可以商业目的限售布图设计。

    D.自布图设计登记申请日起算10年内。

    答案：A,B,C
    解析：
    本题考查受保护的布图设计专有权的保护条件

    布图设计专有权的期限为10年，自布图设计登记申请日或在世界首次投入商业利用之日算起，取较前日期，不一定是自布图设计登记申请日.

    ABC说法正确，D说法不全面。

  • 第3题：

    根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。

    • A、甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计
    • B、乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制
    • C、丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用
    • D、丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用

    正确答案:C

  • 第4题：

    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）

    • A、将受保护的布图设计投入商业利用
    • B、将含有受保护布图设计的集成电路以及含有该集成电路的物品投入商业利用
    • C、对受保护的布图设计的全部进行复制
    • D、对受保护的布图设计的任何具有独创性的部分进行复制

    正确答案:A,B,C,D

  • 第5题：

    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，申请人以书面形式申请集成电路布图设计登记的，应当提交下列哪些文件或者物品？（）

    • A、集成电路布图设计登记申请表
    • B、集成电路布图设计的说明书和权利要求书
    • C、集成电路布图设计的复制件或者图样
    • D、集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品

    正确答案:A,C,D

  • 第6题：

    在我国，集成电路布图设计专有权的保护期为（）.

    • A、10年，自布图设计创作完成之日起计算
    • B、15年，自布图设计登记申请之日起计算
    • C、15年，自布图设计首次投入商业利用之日起计算
    • D、10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算

    正确答案:D

  • 第7题：

    依据我国《集成电路布图设计保护条例》，下列表述正确的有（）

    • A、布图设计专有权的取得方式是登记
    • B、布图设计专有权的保护期为10年，自授权公告之日起算
    • C、对布图设计专有权可以适用强制许可
    • D、对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权
    • E、布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效

    正确答案:A,C,D

  • 第8题：

    关于布图设计权产生的形式条件，通常不包括（）

    • A、该布图设计必须由个人对立创造
    • B、该布图设计必须投入商业实施
    • C、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
    • D、受保护的布图设计必须办理登记手续

    正确答案:A

  • 第9题：

    单选题
    根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。
    A

    甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计

    B

    乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制

    C

    丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用

    D

    丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用


    正确答案： B
    解析： 暂无解析

  • 第10题：

    多选题
    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬？（）
    A

    为个人目的而复制受保护的布图设计

    B

    为研究目的而复制受保护的布图设计

    C

    在评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计

    D

    对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用


    正确答案： B,D
    解析： 对集成电路布图设计的合理使用，其实和著作权的合理使用类似，上述4个选项全选。
    《集成电路布图设计保护条例》第23条：下列行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬：
    （一）为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的；
    （二）在依据前项评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计的；
    （三）对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的。

  • 第11题：

    单选题
    关于布图设计权产生的形式条件，通常不包括（）
    A

    该布图设计必须由个人对立创造

    B

    该布图设计必须投入商业实施

    C

    受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中

    D

    受保护的布图设计必须办理登记手续


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第12题：

    多选题
    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些说法是正确的？（）
    A

    受保护的集成电路布图设计应当是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计

    B

    受保护的集成电路布图设计应当富有美感

    C

    对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等

    D

    集成电路布图设计专有权自创作完成之日起产生


    正确答案： B,A
    解析： 暂无解析

  • 第13题：

    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列说法哪些是正确的?( )

    A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生

    B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生

    C、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计登记申请之日起计算，

    D、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计创作完成之日起计算


    参考答案：A。

  • 第14题：

    无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起（ ）后，将不再受到保护。

    A.10年

    B.15年

    C.5年

    D.20年

    答案：B
    解析：
    需要注意的是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，将不再受到保护。

  • 第15题：

    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）

    • A、对受保护的布图设计的全部进行复制
    • B、对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制
    • C、将受保护的布图设计投入商业利用
    • D、将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用

    正确答案:A,B,C,D

  • 第16题：

    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬？（）

    • A、为个人目的而复制受保护的布图设计
    • B、为研究目的而复制受保护的布图设计
    • C、在评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计
    • D、对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用

    正确答案:A,B,C,D

  • 第17题：

    依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列表述中不正确的表述是：（）

    • A、外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权
    • B、外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
    • C、外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。
    • D、中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计，可以依照本条例享有布图设计专有权。

    正确答案:C

  • 第18题：

    在我国，布图设计专有权的保护期为（）年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起（）年后，不再受保护。

    • A、10、15
    • B、10、20
    • C、15、20

    正确答案:A

  • 第19题：

    关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。

    • A、该布图设计必须投入商业实施
    • B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
    • C、布图设计应具有独创性
    • D、受保护的布图设计必须办理登记手续

    正确答案:A,B,D

  • 第20题：

    多选题
    下列期限说法哪些正确？（）
    A

    保护期自登记申请日或世界任何地方首次投入商业利用之日起（以较前日为准）计算时，布图设计专利权保护期为10年

    B

    布图设计自创作完成之日起算时，保护期为15年

    C

    布图设计自登记证书颁发日起算，保护期为10年

    D

    布图设计自产品投入商业利用日起，保护期为15年


    正确答案： D,C
    解析： 暂无解析

  • 第21题：

    单选题
    在我国，布图设计专有权的保护期为（）年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起（）年后，不再受保护。
    A

    10、15

    B

    10、20

    C

    15、20


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第22题：

    多选题
    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人甲公司可以要求行为人停止下列哪些未经其许可的行为？（）
    A

    某大学教授赵某为教学目的而复制甲公司受保护的布图设计

    B

    乙公司将自己独立创作的与甲公司受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用

    C

    丙公司为商业目的复制甲公司受保护的布图设计中具有独创性的部分

    D

    丁公司为商业目的销售含有甲公司受保护的布图设计的集成电路


    正确答案： D,A
    解析： 暂无解析

  • 第23题：

    问答题
    在我国，布图设计专有权的保护期为几年？无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起几年后，不再受保护？

    正确答案： 10年、15年
    解析： 暂无解析

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