布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起( )内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。A、1年B、2年C、3年D、4年

题目

布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起( )内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。

A、1年

B、2年

C、3年

D、4年

相似考题

1.在我国，集成电路布图设计专有权的保护期为（）.A.10年，自布图设计创作完成之日起计算B.15年，自布图设计登记申请之日起计算C.15年，自布图设计首次投入商业利用之日起计算D.10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算

2.我国集成电路布图设计专有权保护期为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。

3.在我国，布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。（）

4.布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起( )内，仍可以向国务院知识产权行政部门提出登记申请。A.6个月 B.1年内 C.2年内

参考答案和解析
参考答案：B
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  • 第1题：

    1、我国集成电路布图设计专有权保护期为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。


    10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算

  • 第2题：

    8、下列选项中不能获得我国集成电路布图设计权的有：（）

    A．布图设计不具有独创性

    B．由常规设计组成的布图设计，但其组合作为整体具有独创性

    C．布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起3年后在中国申请

    D．外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用


    布图设计不具有独创性;布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起3年后在中国申请

  • 第3题：

    89、在我国，布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。（）


    10、15

  • 第4题：

    8、2. 布图设计专有权的保护期为20年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。（）


    10年、15年

  • 第5题：

    【判断题】布图设计专有权的保护期为20年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。

    A．Y.是

    B．N.否


    10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算

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