25、MOSFET的饱和区漏极电流ID 随 VDS 的增大而略有增大,是由于什么原因引起的:()。
A.基区宽度调变效应
B.漏区静电场对沟道的反馈
C.有效沟道调制效应
D.阈电压的短沟道效应
第1题:
在晶体二极管的反向截止区、反向电流随反向电压的增大而迅速增大。()
第2题:
饱和蒸汽溶解携带的特点是()。
第3题:
晶体三极管的电流放大系数随温度升高而增大。
第4题:
光敏三极管的主要特点是()
第5题:
场效应管的漏极电流ID从1A增加到3A,它的跨导将()。
第6题:
场效应管工作在饱和区时,其漏极电流iD和栅源电压VGS之间呈()关系。
第7题:
当场效应管被预夹断后,ID将随VDS的增大而()
第8题:
电焊变压器的输出电压随负载电流的增大而略有增大
第9题:
为什么饱和压力随饱和温度的升高而增大?
第10题:
减小
增大
趋于饱和
趋于截止
第11题:
最大漏极电流
最小漏极电流
最大许用漏-源电压
最小许用漏-源电压
第12题:
第13题:
PIN光电二极管的响应度随入射光波长的增大而( )。
第14题:
饱和蒸汽对硅酸的溶解携带量与饱和蒸汽的压力之间的关系为()
第15题:
电容滤波电路输出电压叽随输出电流Id增加而(),而且脉动加大。
第16题:
场效应管工作在非饱和区时,其ID和VDS之间呈()关系。
第17题:
硅二极管的反向电流很小,其大小随反向电压的增大而()。
第18题:
JFET是利用PN结反向电压对耗尽层厚度的控制,来改变()的宽窄,从而控制漏极电流的大小;而MOSFET则是利用栅源电压的大小,来改变半导体表面()的多少,从而控制漏极电流的大小。
第19题:
当场效应管的漏极直流电流ID从2mA变为4mA时,它的低频跨导gm将()。
第20题:
晶闸管具有阳极电流随控制极电流增大而按比例增大的特性。
第21题:
第22题:
对
错
第23题:
随基极电流的增大而增大
随基极电流的增大而减小
与基极电流变化无关
以上都不对
第24题:
增大
一样
减小