A、一个
B、两个
C、三个
D、四个
第1题:
NPN型和PNP型晶体管的集电区和基区间的PN结称为发射结
第2题:
双极型晶体管的制作工艺流程中,首先制备的是 ,其次制备的是 ,最后制备的是
A.集电区、基区、发射区
B.基区、发射区、集电区
C.栅区、源区、漏区
D.基区、集电区
第3题:
1、在异质结双极型晶体管中,通常用()。
A.窄禁带材料制作发射区,用宽禁带材料制作基区
B.宽禁带材料制作基区区,用窄禁带材料制作集电区
C.窄禁带材料制作基区,用宽禁带材料制作集电区
D.宽禁带材料制作发射区,用窄禁带材料制作基区
第4题:
晶体三极管中掺杂浓度最低的是()。
A.集电区
B.基区
C.发射区
D.视情况而定
第5题:
4、关于BJT的结构特点,以下说法错误的是()
A.基区很薄,掺杂浓度很低
B.发射区的掺杂浓度远大于集电区
C.基区的掺杂浓度远大于集电区
D.集电区面积大于发射区面积