一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A、不做处理，让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆 - itgle

题目

一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）

A、不做处理，让患者把义齿戴走
B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
C、腭杆组织面缓冲
D、取下腭杆
E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

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1.患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

2.一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是（）A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

3.一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A、不做处理，让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

4.一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

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第1题：

单选题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法为（　　）。
A
腭杆组织面加自凝树脂重衬
B
不做处理，让患者将义齿戴走
C
腭杆组织面缓冲
D
取下腭杆
E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

正确答案： D
解析：
腭杆与粘膜间间隙过大，患者感觉不舒适，且容易嵌塞食物，应取下重新制作。
第2题：

单选题
患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）
A
取下腭杆
B
腭杆组织面缓冲
C
腭杆组织面加自凝树脂重衬
D
不做任何处理
E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

正确答案： E
解析：暂无解析
第3题：

单选题
一患者上颌局部义齿修复，义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是下列哪项？（　　）
A
取下腭杆
B
腭杆组织面做缓冲
C
腭杆组织面加自凝树脂重衬
D
不做任何处理
E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

正确答案： B
解析：
可摘局部义齿的大连接体应该与承托区黏膜清接触，离开腭黏膜2mm，会导致在行使功能时出现义齿的食物嵌塞及义齿移位，为了修理后的腭杆与组织面密合，应该先去除腭杆，把义齿戴入患者口中后重新取印模，在模型上重新加腭杆。

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