一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A、不做处理，让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

题目

一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）

  • A、不做处理，让患者把义齿戴走
  • B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
  • C、腭杆组织面缓冲
  • D、取下腭杆
  • E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
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1.患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

2.一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是（）A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

3.单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法为（　　）。A 腭杆组织面加自凝树脂重衬B 不做处理，让患者将义齿戴走C 腭杆组织面缓冲D 取下腭杆E 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

4.一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

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  • 第1题：

    单选题
    一患者上颌局部义齿修复，义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是下列哪项？（　　）
    A

    取下腭杆

    B

    腭杆组织面做缓冲

    C

    腭杆组织面加自凝树脂重衬

    D

    不做任何处理

    E

    取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆


    正确答案： B
    解析：
    可摘局部义齿的大连接体应该与承托区黏膜清接触，离开腭黏膜2mm，会导致在行使功能时出现义齿的食物嵌塞及义齿移位，为了修理后的腭杆与组织面密合，应该先去除腭杆，把义齿戴入患者口中后重新取印模，在模型上重新加腭杆。

  • 第2题：

    单选题
    患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）
    A

    取下腭杆

    B

    腭杆组织面缓冲

    C

    腭杆组织面加自凝树脂重衬

    D

    不做任何处理

    E

    取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆


    正确答案： E
    解析： 暂无解析

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