关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。A、该布图设计必须投入商业实施B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中C、布图设计应具有独创性D、受保护的布图设计必须办理登记手续

题目

关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。

  • A、该布图设计必须投入商业实施
  • B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
  • C、布图设计应具有独创性
  • D、受保护的布图设计必须办理登记手续
相似考题

1.依据我国《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路知识产权条约》的规定，下列表述中正确的是（）A.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。

2.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计专有权。( )

3.无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受《集成电路布图设计条例》保护。( )

4.关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。A.该布图设计必须投入商业实施B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中C.布图设计应具有独创性D.受保护的布图设计必须办理登记手续

更多“关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。A、该布图设计必须投入商业实施B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中C、布图设计应具有独创性D、受保护的布图设计必须办理登记手续”相关问题

  • 第1题：

    根据集成电路布图设计保护条例的规定，下列哪些说法是正确的?

    A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性

    B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感

    C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念

    D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作


    参考答案：ACD

  • 第2题：

    以下关于集成电路布图设计的说法错误的有（ ）

    A.集成电路布图设计的主体是指依法对集成电路布图设计享有专有权的自然人法人或其他组织。

    B.客体是集成电路而不是布图设计。

    C.受保护的集成电路布图设计应该具有独创性。

    D.受保护的集成电路布图设计不能是显而易见的

    答案：B
    解析：

  • 第3题：

    以下符合受保护的布图设计专有权的保护条件的有（ ）

    A.布图设计自创完成之日起15年内。

    B.未经布图设计权利人许可复制独创性部分。

    C.未经 布图设计权利人许可以商业目的限售布图设计。

    D.自布图设计登记申请日起算10年内。

    答案：A,B,C
    解析：
    本题考查受保护的布图设计专有权的保护条件

    布图设计专有权的期限为10年，自布图设计登记申请日或在世界首次投入商业利用之日算起，取较前日期，不一定是自布图设计登记申请日.

    ABC说法正确，D说法不全面。

  • 第4题：

    布图设计权产生的形式条件包括（）。

    • A、布图设计必须投入商业实施
    • B、布图设计必须具有新颖性
    • C、布图设计必须固化到集成电路芯片中
    • D、必须办理有关登记手续

    正确答案:A,C,D

  • 第5题：

    布图设计不予保护的，有下列哪种？（）

    • A、采用常规设计的布图设计
    • B、布图设计的设计思想
    • C、未经登记的布图设计
    • D、具有独创性的布图设计

    正确答案:A,B,C

  • 第6题：

    下列哪些行为属于侵权行为？（）

    • A、为个人目的或单纯为评价、分析、研究、教学目的而复制受保护的布图设计
    • B、未经许可，复制受保护的布图设计的全部或任何具有独创性的部分
    • C、在分析研究受保护的布图设计基础上，创作出具有独创性的布图设计
    • D、未经许可，为商业进口，销售受保护的布图设计

    正确答案:B,D

  • 第7题：

    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，申请人以书面形式申请集成电路布图设计登记的，应当提交下列哪些文件或者物品？（）

    • A、集成电路布图设计登记申请表
    • B、集成电路布图设计的说明书和权利要求书
    • C、集成电路布图设计的复制件或者图样
    • D、集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品

    正确答案:A,C,D

  • 第8题：

    关于布图设计权产生的形式条件，通常不包括（）

    • A、该布图设计必须由个人对立创造
    • B、该布图设计必须投入商业实施
    • C、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
    • D、受保护的布图设计必须办理登记手续

    正确答案:A

  • 第9题：

    单选题
    在《知识产权协定》规定的集成电路布图设计中，不违法的是 ( )
    A

    为商业目的进口布图设计

    B

    销售受保护的布图设计

    C

    在没有理由知道的情况下分售含有受保护布图设计的集成电路

    D

    销售含有受保护的布图设计的集成电路的物品


    正确答案： D
    解析： 暂无解析

  • 第10题：

    多选题
    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬？（）
    A

    为个人目的而复制受保护的布图设计

    B

    为研究目的而复制受保护的布图设计

    C

    在评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计

    D

    对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用


    正确答案： B,D
    解析： 对集成电路布图设计的合理使用，其实和著作权的合理使用类似，上述4个选项全选。
    《集成电路布图设计保护条例》第23条：下列行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬：
    （一）为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的；
    （二）在依据前项评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计的；
    （三）对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的。

  • 第11题：

    多选题
    下列哪些行为属于侵权行为？（）
    A

    为个人目的或单纯为评价、分析、研究、教学目的而复制受保护的布图设计

    B

    未经许可，复制受保护的布图设计的全部或任何具有独创性的部分

    C

    在分析研究受保护的布图设计基础上，创作出具有独创性的布图设计

    D

    未经许可，为商业进口，销售受保护的布图设计


    正确答案： B,A
    解析： 暂无解析

  • 第12题：

    多选题
    布图设计权产生的形式条件包括（）。
    A

    布图设计必须投入商业实施

    B

    布图设计必须具有新颖性

    C

    布图设计必须固化到集成电路芯片中

    D

    必须办理有关登记手续


    正确答案： C,D
    解析： 暂无解析

  • 第13题：

    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列说法正确的是（）。

    A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性

    B.集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生

    C.对集成电路布图没计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等

    D.集成电路布图设计专有权的保护期为十五年

    E.布图设计权利人在许可他人使用其布图设计时，当事人之间应当订立书面的许可使用合同

    答案：A,B,C,E
    解析：
    《集成电路布图设计保护条例》第4条：“受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。”选项A正确。

    《集成电路布图设计保护条例》第5条：“本条例对布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。”选项C正确。

    《集成电路布图设计保护条例》第8条：“布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。未经登记的布图设计不受本条例保护。”选项B正确。

    《集成电路布图设计保护条例》第12条：“布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。”选项D错误。布图设计权利人在许可他人使用其布图设计时，当事人之间应当订立书面的许可使用合同。E选项正确，

  • 第14题：

    以下情况中，布图设计不受保护的有（ ）

    A.具有独创性的布图设计

    B.未经登记的布图设计

    C.布图设计的思想

    D.具有实用性的布图设计

    答案：B
    解析：
    本题考查不受保护的布图设计专有权的情形

    布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。 未经登记的布图设计不受保护。

  • 第15题：

    根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。

    • A、甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计
    • B、乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制
    • C、丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用
    • D、丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用

    正确答案:C

  • 第16题：

    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）

    • A、对受保护的布图设计的全部进行复制
    • B、对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制
    • C、将受保护的布图设计投入商业利用
    • D、将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用

    正确答案:A,B,C,D

  • 第17题：

    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）

    • A、将受保护的布图设计投入商业利用
    • B、将含有受保护布图设计的集成电路以及含有该集成电路的物品投入商业利用
    • C、对受保护的布图设计的全部进行复制
    • D、对受保护的布图设计的任何具有独创性的部分进行复制

    正确答案:A,B,C,D

  • 第18题：

    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬？（）

    • A、为个人目的而复制受保护的布图设计
    • B、为研究目的而复制受保护的布图设计
    • C、在评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计
    • D、对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用

    正确答案:A,B,C,D

  • 第19题：

    关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。

    • A、该布图设计必须投入商业实施
    • B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
    • C、布图设计应具有独创性
    • D、受保护的布图设计必须办理登记手续

    正确答案:A,B,D

  • 第20题：

    单选题
    根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。
    A

    甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计

    B

    乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制

    C

    丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用

    D

    丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用


    正确答案： B
    解析： 暂无解析

  • 第21题：

    多选题
    布图设计不予保护的，有下列哪种？（）
    A

    采用常规设计的布图设计

    B

    布图设计的设计思想

    C

    未经登记的布图设计

    D

    具有独创性的布图设计


    正确答案： A,D
    解析： 暂无解析

  • 第22题：

    多选题
    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人甲公司可以要求行为人停止下列哪些未经其许可的行为？（）
    A

    某大学教授赵某为教学目的而复制甲公司受保护的布图设计

    B

    乙公司将自己独立创作的与甲公司受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用

    C

    丙公司为商业目的复制甲公司受保护的布图设计中具有独创性的部分

    D

    丁公司为商业目的销售含有甲公司受保护的布图设计的集成电路


    正确答案： D,A
    解析： 暂无解析

  • 第23题：

    单选题
    关于布图设计权产生的形式条件，通常不包括（）
    A

    该布图设计必须由个人对立创造

    B

    该布图设计必须投入商业实施

    C

    受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中

    D

    受保护的布图设计必须办理登记手续


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第24题：

    多选题
    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些说法是正确的？（）
    A

    受保护的集成电路布图设计应当是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计

    B

    受保护的集成电路布图设计应当富有美感

    C

    对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等

    D

    集成电路布图设计专有权自创作完成之日起产生


    正确答案： B,A
    解析： 暂无解析

相关内容