在进行空间分析时，经常设置Mask（掩膜），设置掩膜的作用是什么？

题目

在进行空间分析时，经常设置Mask（掩膜），设置掩膜的作用是什么？

相似考题

1.可以多次编程的只读存储器是A.PROMB.EPROMC.EEPROMD.掩膜式ROME.EPRAM

2.金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜，带胶蒸发或溅射所需的金属，然后在去除光致抗蚀剂膜的同时，把胶膜上的金属一起去除干净。（）

3.器件的横向尺寸控制几乎全由（）来实现。A、掩膜版B、扩散C、光刻

4.对于圆柱形球形等无支承面的大件装车时，通常设置支承座掩木等，并用钢丝绳加固。

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  • 第1题：

    子又安从授之而掩其上哉。“掩其上”在句中是什么意思？


    正确答案: 掩其上：盖过他，超过他

  • 第2题：

    掩膜ROM只读存储器的内容是不可以改写的


    正确答案:正确

  • 第3题：

    80C51含（）掩膜ROM。


    正确答案:4KB

  • 第4题：

    按照数据写入方式特点的不同，ROM可分为掩膜ROM，（），（）。


    正确答案:PROM；EPROM

  • 第5题：

    能够用紫外光擦除ROM中程序的只读存储器称为（）。

    • A、掩膜ROM
    • B、PROM
    • C、EPROM
    • D、EEPROM

    正确答案:C

  • 第6题：

    填空题
    光化学腐蚀制备掩膜采用（）受到光照射而凝固，不受光的部分仍然为液态，这实质上是将化学加工常规制备掩膜时的（）和（）两道工序合二为一。

    正确答案： 光敏树脂等感光材料,掩膜涂覆,刻划
    解析： 暂无解析

  • 第7题：

    判断题
    投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 对
    解析： 暂无解析

  • 第8题：

    问答题
    使用什么材料制作投影掩膜板，投影掩膜板上形成图形的不透明材料是什么？

    正确答案： 最主要的是用于亚微米光刻的投影掩膜版衬底材料是熔融石英。不透明材料是一薄层铬。
    解析： 暂无解析

  • 第9题：

    判断题
    光掩膜法中一次固化是一个截面，而光固化成形是逐点成面，因而光掩膜法成形效率比光固化成形高得多。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 错
    解析： 暂无解析

  • 第10题：

    问答题
    子又安从授之而掩其上哉。“掩其上”在句中是什么意思？

    正确答案： 掩其上：盖过他，超过他
    解析： 暂无解析

  • 第11题：

    名词解释题
    二元掩膜

    正确答案： 通过对掩膜片基上的感光胶片进行有控制的曝光和显影获得
    解析： 暂无解析

  • 第12题：

    问答题
    什么是光敏度，移相掩膜，驻波效应？

    正确答案： 光敏度：指单位面积上入射的使光刻胶全部发生反应的最小光能量或最小荷量。
    移相掩膜：基本原理是在光掩模的某些透明图形上增加或减少一个透明的介质层，称移相器，使光波通过这个介质层后产生180°的位相差，与邻近透明区域透过的光波产生干涉，抵消图形边缘的光衍射效应，从而提高图形曝光分辨率
    驻波效应：在微细图形光刻过程中，一般曝光光源为单色或窄带光源，在由基片、氧化物层和抗蚀剂等组成的多层膜系情况下，由于膜系各层折射率不同，曝光时入射光将在各层膜的界面处发生多次反射，在光致抗蚀剂中形成驻波。
    解析： 暂无解析

  • 第13题：

    可以通过紫外线擦除其中内容，并可以多次改写的ROM是（）

    • A、掩膜ROM
    • B、EEPROM
    • C、Flash Memory
    • D、EPROM

    正确答案:D

  • 第14题：

    掩膜型ROM可简记为（）。

    • A、PROM
    • B、MROM
    • C、EPROM
    • D、EEPROM

    正确答案:B

  • 第15题：

    89C51采用的内部程序存储器是（）。

    • A、EPROM
    • B、ROMLess
    • C、Flash
    • D、掩膜ROM

    正确答案:C

  • 第16题：

    二元掩膜


    正确答案: 通过对掩膜片基上的感光胶片进行有控制的曝光和显影获得

  • 第17题：

    AT89S51单片机采用的内部程序存储器的类型是（）。

    • A、EPROM
    • B、Flash
    • C、SFR
    • D、掩膜ROM

    正确答案:B

  • 第18题：

    判断题
    光掩膜法成形原理上与光化学加工制备掩膜时原理类似，只是后者制备的掩膜较薄，而非立体零件。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 错
    解析： 暂无解析

  • 第19题：

    判断题
    电子束光刻主要用于制作掩膜。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 对
    解析： 暂无解析

  • 第20题：

    问答题
    描述投影掩膜版和光掩膜版的区别？

    正确答案： 投影掩膜版它包括了要在硅片上重复生成的图形。这种图形可能仅包含一个管芯，也可能是几个光掩膜版通常称为掩膜版，包含了对于整个硅片来说确定一工艺层所需的完整管芯阵列。
    解析： 暂无解析

  • 第21题：

    判断题
    光掩膜法中光敏树脂的浪费比光固化成形更低。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 对
    解析： 暂无解析

  • 第22题：

    问答题
    解释亮场掩膜版和暗场掩膜版。

    正确答案： 如果一个掩膜版，其石英板上大部分被铬覆盖，它就指的是暗场掩膜版。亮场掩膜版有大面积的透明的石英，而只有很细的铬图形。
    解析： 暂无解析

  • 第23题：

    问答题
    掩膜版的对准法则，说明对准误差有哪些？

    正确答案： ①把所需图形在晶圆表面上定位或对准
    ②通过曝光灯或其他辐射源将图形转移到光刻胶涂层上
    对准原则：
    ①第一个掩膜版的对准是把掩膜版上的y轴与晶圆上的平边成90度放置；
    ②后续的掩膜版都用对准标记与上一层带有图形的掩膜对准。
    对准误差：
    ①X或Y方向的平移；
    ②转动
    解析： 暂无解析

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