光发射机射频调制电平过高或过低会造成什么现象？
题目
光发射机射频调制电平过高或过低会造成什么现象？
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第1题：
什么叫载波通路传输电平,传输电平过高或过低会造成什么后果?
正确答案: 传输电平是指载波通路上各主要点电平，是载波通路传输质量的最基本指标。传输电平过高，会造成设备中某些部件过负荷，使振幅特性变坏，严重时会产生非线性失真，引起本设备收，发信支路的串音，对相邻设备的串音及通路电平不稳定。
传输电平过低，在一定杂音情况下，信噪比大大下降，降低了通信质量同时缩小了振铃边际，降低了呼通率。 -
第2题：
液面过高或过低会造成蒸发器跑碱。
正确答案:正确 -
第3题：
前端光发射机射频输入至激光器电平增大1dB，光链路CSO将（）。
- A、增加1dB
- B、下降1dB
- C、增加2dB
- D、下降2dB
正确答案:B -
第4题：
用户电平过高会使电视机或机顶盒工作在（）工作区，光站输出电平过高也会如此。
正确答案:非线性 -
第5题：
在调幅光发射机中按照强度调制的方式不同又分为（）光发射机和（）光发射机。
正确答案:直接调制；外调制 -
第6题：
为什么枪位过高易造成大喷，而过低会造成不化渣？
正确答案:如果枪位过高，氧气流股达到熔池表面时，冲击面积大而流速低对熔池搅拌力较弱，钢中元素的氧化将减弱，而金属熔池表面及炉渣不断氧化，造成炉渣中FeO含量的急剧升高，当渣中FeO聚集到一定程度时，会与钢液中C发生激烈的突发性化学反应，产生大量的CO气体夹杂带着钢渣喷出炉口形成大喷。枪位过低，氧流对熔池的冲击力大，冲击深度深，气—熔渣—金属液乳化充分，炉内C—O反应激烈，FeO的消耗数量增多，熔渣内TFe含量减少，造成不化渣。 -
第7题：
光发射机输入信号电平与光调制度m是相关联的，当光发射机工作在手动增益控制状态，输入信号电平每增加1dB，光调制度将（）。
- A、增加10%
- B、下降10%
- C、增加20%
- D、下降20%
正确答案:A -
第8题：
直接调制光发射机的射频输入电平一般为（）
- A、60dBμV
- B、70dBμV
- C、75dBμV
- D、90BμV
正确答案:C,D -
第9题：
VHF发射机面板指示VSWR过高，系统可能故障是（）。
- A、调制器、收发转换继电器、射频电缆、
- B、RF功放、收发转换继电器、射频电缆
- C、收发转换继电器、调制器
- D、射频电缆、调制器、收发转换继电器
正确答案:B -
第10题：
问答题循环流化床锅炉床温过高或过低各会造成什么危害？正确答案： 床温超温时的危害是：
1）使脱硫剂偏离最佳反应温度，脱硫效率下降。
2）床稳超过或局部超过燃料的结焦温度时，炉膛会出现高温结焦。布风板上和回料阀处结焦时，处理十分困难，只能停炉后人工处理。
3）使炉膛出口蒸汽超温，影响正常运行。解析： 暂无解析 -
第11题：
单选题义齿恢复垂直距离过高或过低会造成（ ）。ABCDE正确答案： B解析： 暂无解析 -
第12题：
填空题用户电平过高会使电视机或机顶盒工作在（）工作区，光站输出电平过高也会如此。正确答案： 非线性解析： 暂无解析 -
第13题：
酸渣排放比重（含固量）过高或过低对设备（系统）会造成什么样的影响？
正确答案: 当酸渣控制排放比重过高时会造成槽耙油压升高而跳停或使槽耙连接尼龙销扭断，进而造成事故；同时因酸渣浓度高，会使配渣槽搅拌器桨叶和设备、管道磨蚀加剧，且不利于输送。
当酸渣控制排放比重过低，浓酸渣进入配渣槽时，会使配渣槽的有效容积减小，而多余的酸渣必须返回萃取使用，会影响萃取石膏结晶。而稀酸渣排放含固量低时，会降低萃取槽的有效容积，影响萃取过滤系统的负荷。 -
第14题：
前端机房内光传输设备的维护要点是：光传输设备应保证良好的工作环境和供电电压的稳定可靠。定期检测光发射机的输入射频信号电平和输出光功率。定期检测光接收机的输入光功率和射频输出信号电平。
正确答案:正确 -
第15题：
前端光发射机射频输入至激光器电平增大1dB，光链路C/N将（）。
- A、增加1dB
- B、下降1dB
- C、增加2dB
- D、下降2dB
正确答案:A -
第16题：
光接收机输出电平与光输入功率和光发射机输入电平有什么关系？
正确答案:光接收机输入功率变化1dBm, 光接收机输出电平变化2dB。光发射机输入电平变化1dB,，光接收机输出电平约变化1dB。 -
第17题：
为什么氧枪枪位过高会造成大喷，枪位过低会造成化渣不良？
正确答案: 如果氧枪枪位过高，氧气流股达到熔池表面时，冲击面积大而流速低，对熔池的搅拌力较弱，碳氧反应减弱，而金属熔池表面及炉渣不断氧化，炉渣中氧化铁积聚升高至一定程度时，氧化铁与钢中碳发生激烈反应，产生大量的CO气体而发生大喷。如果枪位过低，特别是在吹炼中期，氧气流股强烈搅拌熔池，使碳急剧氧化，不仅使吹入的氧气大量被氧化所消耗，而且渣中大量的氧化铁也参与碳氧反应，使渣中的氧化铁含量降低，至一定程度的，使炉渣的熔点升高造成炼钢温度以固态形式析出，形成炉渣“返干”现象。 -
第18题：
D202的液位一般控制多少？过高或过低会造成什么影响？
正确答案: D202的液位由LIC231控制，一般控制40%。
过高：不利于气液平衡，缓冲空间减小，不利于系统操作；
过低：系统压力波动增大，LIC231的开度波动也大，容易造成管线堵塞。 -
第19题：
光发射机中外调制方式用哪些类型？内调制和外调制各有什么优缺点？
正确答案: 外调制有电折射调制器、电吸收MQW调制器和M-Z干涉型调制器。
内调制的优点是简单、经济、易实现，适用于半导体激光器LD和发光二极管LED；缺点是带来了输出光脉冲的相位抖动（即啁啾效应），使光纤的色散增加，限制了容量的提高。外调制的有点事可以减少啁啾，不但可以实现OOK方案，也可以实现ASK、FSK、PSK等调制方案；缺点是成本高，不易实现。 -
第20题：
什么是直接调制光发射机和外调制光发射机？
正确答案: 直接调制光发射机是射频信号直接对激光器进行调制，是目前通常应用最多的光发射机，也叫分布反馈式激光器。外调制光发射机的激光发生和调制是分别进行的，等幅激光由固体激光器产生，1310nm波长采用掺钕钇铝石榴石固体激光器，1550nm波长采用DFB固体激光器，调制是铌酸锂制成的电光调制器在激光器外部完成的。 -
第21题：
微波通信发射机分为中频调制发射机和（）发射机。
- A、不调制
- B、光频
- C、低频调制
- D、微波调制
正确答案:D -
第22题：
问答题光发射机中外调制方式有哪些类型？内调制和外调制各有什么优缺点？正确答案： 外调制有电折射调制器、电吸收MQW调制器和M—Z干涉型调制器。
内调制的优点是简单、经济、易实现，适用于半导体激光器LD和发光二极管LED；缺点是带来了输出光脉冲的相位抖动（即啁啾效应），使光纤的色散增加，限制了容量的提高。
外调制的优点是可以减少啁啾，不但可以实现OOK方案，也可以实现ASK、FSK、PSK等调制方案；缺点是成本高，不易实现。解析： 暂无解析 -
第23题：
单选题在无线通信中，发射机将基带信号调制到射频频率上的频带调制常称为（）。A射频调制
B射频解调
C射频载波
D射频载频
正确答案： A解析： 暂无解析