光刻中采用步进扫描技术获得了什么好处？
题目
光刻中采用步进扫描技术获得了什么好处？
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第1题：
解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？
正确答案:扫描投影光刻机的概念是利用反射镜系统把有1：1图像的整个掩膜图形投影到硅片表面，其原理是，紫外光线通过一个狭缝聚焦在硅片上，能够获得均匀的光源，掩膜版和带胶硅片被放置在扫描架上，并且一致的通过窄紫外光束对硅片上的光刻胶曝光 由于发生扫描运动，掩膜版图像最终被光刻在硅片表面。
扫描光刻机主要挑战是制造良好的包括硅片上所有芯片的一倍掩膜版。 -
第2题：
简述电子束光刻的光栅扫描方法和矢量扫描方法有何区别。
正确答案: 在光栅扫描方法中，每一个像素必须被逐次扫描。这样，曝光时间几乎与图形无关，图形就是通过打开和关闭快门写出来的。而已经开发出来的另一种矢量扫描方法，是将每个需要曝光区域的数字位置传送给x，y数/模转换器（DAC.，电子束只指向那些需要曝光的像素。矢量扫描系统优于光栅法的重要优点在于将电子束偏转时间减到最小，另一方面，图形地址精度简单的取决于数字的字长，使用高速宽字长DAC就能够将每个像素放在一个极细小的格点上。 -
第3题：
光刻技术
正确答案: 光刻加工是用照相复印的方法将光刻掩膜上的图像印制在涂有光致抗蚀剂（光刻胶）的薄膜或基材表面，然后进行选择性腐蚀，刻蚀出规定的图形。光刻工艺的基本过程包括涂胶、曝光、显影、坚膜、腐蚀、去胶。 -
第4题：
问答题解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？正确答案： 扫描投影光刻机的概念是利用反射镜系统把有1：1图像的整个掩膜图形投影到硅片表面，其原理是，紫外光线通过一个狭缝聚焦在硅片上，能够获得均匀的光源，掩膜版和带胶硅片被放置在扫描架上，并且一致的通过窄紫外光束对硅片上的光刻胶曝光由于发生扫描运动，掩膜版图像最终被光刻在硅片表面。扫描光刻机主要挑战是制造良好的包括硅片上所有芯片的一倍掩膜版。解析： 暂无解析 -
第5题：
问答题什么是正光刻胶，负光刻胶？正确答案： 正光刻胶：胶的曝光区在显影中除去，当前常用正胶为DQN，组成为光敏剂重氮醌（DQ），碱溶性的酚醛树脂（N），和溶剂二甲苯等。解析： 暂无解析 -
第6题：
问答题光刻中采用步进扫描技术获得了什么好处？正确答案： 增大了曝光场，可以获得较大的芯片尺寸，一次曝光可以多曝光些芯片，它还具有在整个扫描过程调节聚焦的能力。解析： 暂无解析 -
第7题：
问答题什么是平视显示技术HUD？采用HUD有什么好处？正确答案： HUD是英文HeadUpDisplay的缩写，是指将有关道路信息，使文字或图像上显示在前风挡玻璃的驾驶员平视范围上，且显示位置、显示亮度可调，可以避免驾驶员低头看仪表，从而缩短眼球对前方的视觉盲区时间。对减少因低头走神引起的交通事故有着重要的价值。
好处：其一是驾驶员不必低头，就能在风窗上看到所需的重要信息，缩短眼球对前方的视觉盲区时间，有效减少因驾驶员低头走神引起的交通事故；其二是驾驶员不必在观察远处的道路和近处的仪表之间调节眼睛，可避免眼睛的疲劳；其三是速度显示非常直观，车速控制更精确了，很有动感，在高速上安全性要好些。解析： 暂无解析 -
第8题：
问答题数据仓库中采用标识技术有什么好处？正确答案： 记录被标识后，存储记录的空间将大大缩小。此外，数据量越大（也就是记录两越多），标准的数据库和标识数据库的存储需求差异也就越大。换句话说，记录量越多，基于标识的数据库的优势就越明显。使用标识时，有几项非常有利的应用：
1.大量压缩数据。
2.数据越多，表示数据比标准的、基于记录的数据更有利。
3.因为数据被大量压缩，所以整个数据库可以存放在内存中。
4.可以索引所有的行和所有的列。
一旦将基于标识的数据库存放在内存中处理速度会得到很大的提高。根据不同的细节，查询的速度可以提高到两到三个（甚至更多）数量级。解析： 暂无解析 -
第9题：
问答题什么是负性光刻？正性光刻？正确答案： 负性光刻：把与掩膜版上图形相反的图形复制到硅片上。
正性光刻：把与掩膜版上图形相同的图形复制到硅片上。两种工艺的区别：所用光刻胶不同。解析： 暂无解析 -
第10题：
问答题光刻技术中的常见问题有那些？正确答案： 半导体器件和集成电路的制造对光刻质量有如下要求：
一是刻蚀的图形完整，尺寸准确，边缘整齐陡直；
二是图形内没有针孔；
三是图形外没有残留的被腐蚀物质。同时要求图形套刻准确，无污染等等。但在光刻过程中，常出现浮胶、毛刺、钻蚀、针孔和小岛等缺陷。
浮胶就是在显影和腐蚀过程中，由于化学试剂不断侵入光刻胶膜与SiO2或其它薄膜间的界面，所引起的光刻胶图形胶膜皱起或剥落的现象。所以，浮胶现象的产生与胶膜的粘附性有密切关系。
腐蚀时，如果腐蚀液渗透光刻胶膜的边缘，会使图形边缘受到腐蚀，从而破坏掩蔽扩散的氧化层或铝条的完整性。若渗透腐蚀较轻，图形边缘出现针状的局部破坏，习惯上就称为毛刺；若腐蚀严重，图形边缘出现“锯齿状”或“绣花球”样的破坏，就称它为钻蚀。
在氧化层上，除了需要刻蚀的窗口外，在其它区域也可能产生大小一般在l~3微米的细小孔洞。这些孔洞，在光刻工艺中称为针孔。
小岛，是指在应该将氧化层刻蚀干净的扩散窗口内，还留有没有刻蚀干净的氧化层局部区域，它的形状不规则，很象“岛屿”，尺寸一般比针孔大些，习惯上称这些氧化层“岛屿”为小岛。解析： 暂无解析 -
第11题：
问答题什么是光刻加工技术？试简述光刻加工的原理和工艺流程。正确答案： 光刻加工技术就是用光刻加工方法，刻蚀出规定的图形的技术。
光刻加工是用照相复印的方法将光刻掩膜上的图形印制在涂有光致抗蚀剂（光刻胶）的
薄膜或基材表面，然后进行选择性腐蚀，刻蚀出规定的图形。
工艺流程是：涂胶、曝光、显影、坚膜、腐蚀及去胶。解析： 暂无解析 -
第12题：
问答题后光刻时代有那些光刻新技术？正确答案： 浸入式光刻、纳米压印光刻、极紫外光刻（EUV）和无掩模(ML2)一起成为后光刻技术时代的候选技术。解析： 暂无解析 -
第13题：
什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？
正确答案: 光刻是一种图形复印和化学腐蚀相结合的精密表面加工技术。
对光刻工艺质量的基本要求是：刻蚀的图形完整、尺寸准确、边缘整齐、线条陡直；图片内无小岛、不染色、腐蚀干净；图形套合十分准确；介质膜或金属膜上无针孔；硅片表面清洁、不发花、无残留的被腐蚀物质。 -
第14题：
什么是平视显示技术HUD？采用HUD有什么好处？
正确答案: HUD是英文HeadUpDisplay的缩写，是指将有关道路信息，使文字或图像上显示在前风挡玻璃的驾驶员平视范围上，且显示位置、显示亮度可调，可以避免驾驶员低头看仪表，从而缩短眼球对前方的视觉盲区时间。对减少因低头走神引起的交通事故有着重要的价值。
好处：其一是驾驶员不必低头，就能在风窗上看到所需的重要信息，缩短眼球对前方的视觉盲区时间，有效减少因驾驶员低头走神引起的交通事故；其二是驾驶员不必在观察远处的道路和近处的仪表之间调节眼睛，可避免眼睛的疲劳；其三是速度显示非常直观，车速控制更精确了，很有动感，在高速上安全性要好些。 -
第15题：
光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是（）
- A、电子束曝光技术
- B、离子束曝光技术
- C、X射线曝光技术
正确答案:B -
第16题：
问答题简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。正确答案： 光刻胶是一种有机化合物，它受紫外线曝光后在显影液中的溶解度发生显著变化，而未曝光的部分在显影液中几乎不溶解。
光刻胶的用途：①做硅片上的图形模版（从掩膜版转移到硅片上的图形）；
②在后续工艺中，保护下面的材料（例如刻蚀或离子注入）。
光刻对光刻胶的要求：①分辨率高；
②对比度好；
③敏感度好；
④粘滞性好；
⑤粘附性好；
⑥抗蚀性好；
⑦颗粒少。解析： 暂无解析 -
第17题：
问答题什么叫做光刻，光刻有何目的？正确答案： 定义：光刻是图形复印与腐蚀作用相结合，在晶片表面薄膜上制备图形的精密表面工艺技术。
目的：在介质薄膜（二氧化硅、氮化硅、多晶硅等）、金属薄膜或金属合金薄膜上面刻蚀出与掩膜版完全对应的几何图形，从而实现选择性扩散和金属薄膜布线的目的。解析： 暂无解析 -
第18题：
问答题步进扫描有什么优缺点？正确答案： 优点：无滞后效应，平滑效应，峰位准，分辨力好。
缺点：速度慢、时间长。解析： 暂无解析 -
第19题：
问答题列举下一代光刻技术中4种正在研发的光刻技术。正确答案： 1.极紫外光刻技术（EUV）
2.离子束投影光刻技术（IPL）
3.角度限制投影电子束光刻技术（SCALPEL）
4.X射线光刻技术解析： 暂无解析 -
第20题：
判断题先进集成电路加工中，主要采用投影式光刻曝光技术。A对
B错
正确答案： 对解析： 暂无解析 -
第21题：
判断题步进光刻机的三个基本目标是对准聚焦、曝光和合格产量。A对
B错
正确答案： 对解析： 暂无解析 -
第22题：
单选题光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是（）。A电子束曝光技术
B离子束曝光技术
CX射线曝光技术
正确答案： B解析： 暂无解析 -
第23题：
问答题什么是光刻？光刻的主要流程有哪些？正确答案： 光刻就是通过一系列生产步骤，将晶圆薄膜的特定部分去除的工艺。
流程有晶圆涂光刻胶、曝光、显影、烘干。解析： 暂无解析