影响X射线荧光分析的三个主要因素是样品非均匀性、()、()
第1题:
X射线荧光分析时基体效应的基体与光电直读光谱分析用的铁基样品、镍基样品、铬基样品的铁基、镍基、铬基含意是一样的。
第2题:
在X射线荧光分析中,当样品研磨到极细时,则()基本消失;将样品制成薄层并薄到临界厚度以下时,分析线所受的()与样品的组成无关。
第3题:
原子受高能辐射,其内层电子发生能级跃迁,发射出特征X射线(X射线荧光),通过测定其强度进行定量分析的方法被称为()
第4题:
X射线荧光仪在以X射线管作为激发源时,原级X射线光谱中特征光谱是用于激发样品的主要光源。
第5题:
X射线荧光光谱分析中,连续光谱激发样品时,连续光谱中的散射线是构成背景的主要来源,会影响分析元素的检测限,尤其对痕量元素。
第6题:
采用X射线荧光光谱法分析粉末样品,造成分析误差的因素中,粒度效应和()占很大比例。
第7题:
X射线荧光光谱法分析金属样品,分析面的光洁程度不会影响分析精度。
第8题:
在X射线荧光光谱分析中,样品中除分析元素以外的全部元素为基体,基体元素对分析元素的影响叫基体效应。
第9题:
由X射线管发出的一次X射线激发样品,使样品所含元素辐射出二次X射线,即X射线()。
第10题:
X射线荧光光谱分析是相对分析方法,需要通过测试()来确定待测样品的含量。
第11题:
进行X射线荧光光谱分析的样品,可以是固态,也可以是水溶液。
第12题:
第13题:
X射线荧光光谱分析康普顿散射线内标法是根据靶线的康普顿散射线的强度很敏感地受样品成分的影响而设计的分析方法。
第14题:
台式X射线荧光镀层测厚仪和手持式X射线荧光光谱仪相比,更适合不规则样品的镀层检测。
第15题:
X射线荧光光谱法分析金属样品,对分析面的要求是什么?
第16题:
X射线荧光光谱法分析金属样品,分析面的光洁程度直接影响()
第17题:
X射线荧光光谱可对分析样品中的元素进行()
第18题:
在X射线荧光分析中内标法往往可以采用将样品制成溶液的形式或以熔剂熔融的方式进行。
第19题:
X射线荧光光谱法中,分析微量Al的样品不能用()磨料抛光。
第20题:
在x射线荧光分析法中,由x射线管直接产生的x射线是()。
第21题:
影响X射线强度的主要因素有基体效应、不均匀效应和谱线干扰。
第22题:
X射线荧光光谱法分析金属样品,取样过程中冷却条件的差异不会造成分析误差。
第23题:
从正面看,X射线荧光接收器在所放样品位置的左边
从正面看,X射线荧光接收器在所放样品位置的右边
样品放置,应保证X射线荧光不受干扰地到达探测器
样品放置位置关系不大,只要能满足聚焦清晰即可