影响化学气相沉积制备材料质量有哪几个主要因素？
题目
影响化学气相沉积制备材料质量有哪几个主要因素？
相似考题
更多“影响化学气相沉积制备材料质量有哪几个主要因素？”相关问题
-
第1题：
化学气相沉积（气→固）可以分为哪几种？
正确答案: 可分为热解化学气相沉积、氧化还原反应沉积、化合反应沉积、化学输运反应沉积四种。典型的例子是CVD生长石墨烯。
1、发生热解化学气相沉积反应的有氢化物、有机烷氧基的元素化合物、金属的碳基化合物等。
2、氧化还原反应沉积通常是由金属的氢化物或有机烷基化合物通入氧气发生，或者由卤化物通入氢气发生。
3、化合反应沉积常利用氢化物或有机烷基化合物的不稳定性，经过热分解以后立即在气相中和其他原料气反应生成固态沉积物。
4、利用物质本身在高温下会气化分解然后在沉积反应器稍冷的地方反应沉积生成薄膜、晶体或粉末等形式的产物。 -
第2题：
简述化学气相沉积生产装置
正确答案: （1）气相反应室；
（2）加热系统；
（3）气体控制系统；
（4）排气系统 -
第3题：
在光纤的制备方法中，VAD法是指（）。
- A、外部化学气相沉积法
- B、轴向化学气相沉积法
- C、改进的化学气相沉积法
- D、等离子化学气相沉积法
正确答案:B -
第4题：
低压化学气相沉积有哪些优点？
正确答案:优点：1.晶体生长或成膜的质量好
2.沉积温度低，便于控制
3.可使沉积衬底的表面积扩大，提高沉积效率。
化学式：Fe3O4+8HCl=FeCl2+2FeCl3+4H2O -
第5题：
化学气相沉积与物理气相沉积最根本的区别是在沉积前是否发生了（）。
正确答案:化学反应 -
第6题：
问答题影响浅海化学沉积的主要因素是什么？研究浅海化学沉积有何重要意义？正确答案： 影响浅海化学沉积的主要因素是，化学组分的含量及其溶解度、氧、CO2含量及pH值的变化、电解质对电荷的中和、细粒碎屑和生物碎屑的吸附作用、气候条件及生物作用等。
浅海化学沉积，不仅数量多、分布广，能形成许多矿产，而且对气候反映亦比较明显，因此，对浅海化学沉积作用的研究，不仅具有重要的实际意义，而且可以推断沉积物附近地区的古气候状况。解析： 暂无解析 -
第7题：
单选题集成电路生产中，金属薄膜的沉积通常采用（）A溅射物理气相沉积
B蒸发物理气相沉积
C等离子增强化学气相沉积
D低压化学气相沉积
正确答案： A解析： 暂无解析 -
第8题：
问答题简述影响化学气相沉积制备材料质量的几个主要因素。正确答案： （1）反应混合物的供应
反应混合物的供应是决定材料质量的最重要因素之一。通过实验选择最佳反应物分压配比。
（2）沉积温度
沉积温度是最主要的工艺条件之一。直接影响反应系统的自由能，决定反应进行的程度和方向，对涂层的显微结构及化学组成有直接的影响。同一反应体系在不同温度下，沉积物可以是单晶、多晶、无定形物，甚至不发生沉积。
（3）衬底材料
对沉积层质量来说，基体材料是一个十分关键的影响因素。涂层能与基体之间有过渡层或线性膨胀系数差异相对较小时，涂层与基体结合牢固。
（4）系统内总压和气体总流速
这一因素在封管系统中往往起着重要作用。它直接影响输运速率，由此波及生长层的质量。在真空（一至几百帕）沉积工作日益增多的情况下，会改善沉积层的均匀性和附着性等。
（5）反应系统装置的因素
反应系统的密封性、反应管和气体管道的材料以及反应管的结构形式对产品质量也有不可忽视的影响。
（6）源材料的纯度
大量事实表明，器件质量不合格往往是由于材料问题，而材料质量又往往与源材料（包括载气）的纯度有关。解析： 暂无解析 -
第9题：
问答题化学气相沉积和物理气相沉积的基本原理是什么？正确答案： 物理气相沉积，在真空条件下，用物理方法使材料气化成原子、分子或电离成离子，并通过物理沉积过程，在材料表面沉积一层薄膜的技术；
化学气相沉积，在一定条件下，混合气体相互作用或与基体表面相互作用而在基体表面形成金属或化合物薄膜的方法。解析： 暂无解析 -
第10题：
问答题什么是化学气相沉积？正确答案： 乃是通过化学反应的方式，利用加热、等离子激励火光辐射等各种能源，在反应器内使七台或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。
这种技术可以提高材料抵御环境作用的能力，如提高材料表面的硬度、耐磨性和耐腐蚀性；他还可以赋予材料某些功能特性，包括光、电、磁、热、声等各种物理和化学性能。解析： 暂无解析 -
第11题：
单选题“PECVD”中文表述是（）。A脉冲激光沉积
B金属有机化学气相沉积
C溅射
D等离子体增强化学气相沉积
正确答案： C解析： 暂无解析 -
第12题：
问答题影响化学气相沉积制备材料质量有哪几个主要因素？正确答案： （1）反应混合物。
（2）沉积温度。
（3）衬底材料。
（4）系统内总压和气体总流速。
（5）反应系统装置的因素。
（6）源材料的纯度。解析： 暂无解析 -
第13题：
利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。
- A、物理气相沉积（PVD）
- B、物理气相沉积（CVD）
- C、化学气相沉积（VCD）
- D、化学气相沉积（CVD）
正确答案:D -
第14题：
化学气相沉积
正确答案: 乃是通过化学反应的方式，利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源，在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。 -
第15题：
目前正在广泛研究的有化学气相沉积法、（）、固相结晶、等。
正确答案:液相外延 -
第16题：
化学气相沉积和物理气相沉积的基本原理是什么？
正确答案:物理气相沉积，在真空条件下，用物理方法使材料气化成原子、分子或电离成离子，并通过物理沉积过程，在材料表面沉积一层薄膜的技术；
化学气相沉积，在一定条件下，混合气体相互作用或与基体表面相互作用而在基体表面形成金属或化合物薄膜的方法。 -
第17题：
单选题制备石英光纤有多种方法，其中等离子体化学气相沉积法的缩写是（）APCVD
BCVD
CMCVD
DAVD
正确答案： B解析： 暂无解析 -
第18题：
单选题利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。A物理气相沉积（PVD）
B物理气相沉积（CVD）
C化学气相沉积（VCD）
D化学气相沉积（CVD）
正确答案： D解析： 暂无解析 -
第19题：
填空题化学气相沉积与物理气相沉积最根本的区别是在沉积前是否发生了（）。正确答案： 化学反应解析： 暂无解析 -
第20题：
问答题化学气相沉积与物理气相沉积有什么区别？正确答案： （1）化学气相沉积（CVD）是将低温下气化的金属化合物与加热到高温的工件接触，在工件表面与碳氢化合物和氢气或氮气进行气相反应而生成金属或化合物沉积层的过程。
（2）将金属、合金或化合物放在真空室中蒸发或称溅射，使这些相原子或分子在一定条件下沉积在工件表面上的工艺称为物理气相沉积（简称PVD）.解析： 暂无解析 -
第21题：
名词解释题化学气相沉积正确答案： 化学气体或蒸气和晶圆表面的固体产生反应，在表面上以薄膜形式产生固态的副产品，其它的副产品是挥发性的会从表面离开。解析： 暂无解析 -
第22题：
填空题气相沉积法分为（）和化学沉积法；化学沉积法按反应的能源可分为热能化学气相沉积、（） 。正确答案： 物理沉积法,等离子增强化学气相沉积与光化学沉积解析： 暂无解析 -
第23题：
填空题较为成熟的（）的制备方法主要有电弧法、热蒸发法、燃烧法和化学气相沉积法等。正确答案： 富勒烯解析： 暂无解析