MOS数字集成电路的发展经历了由PMOS、NMOS到CMOS的过程,其中PMOS电路问世最早。PMOS管是以空穴为导电载流子,而NMOS管以电子为导电载流子,由于空穴的迁移率比电子低,因此,NMOS电路的工作速比PMOS电路快,而且PMOS使用负电源,与TTL电路不匹配,所以PMOS集成电路被NMOS电路取代。后来发展的CMOS电路有静态功耗低、抗干扰能力强等诸多优点而成为主流器件。对吗?

题目

MOS数字集成电路的发展经历了由PMOS、NMOS到CMOS的过程,其中PMOS电路问世最早。PMOS管是以空穴为导电载流子,而NMOS管以电子为导电载流子,由于空穴的迁移率比电子低,因此,NMOS电路的工作速比PMOS电路快,而且PMOS使用负电源,与TTL电路不匹配,所以PMOS集成电路被NMOS电路取代。后来发展的CMOS电路有静态功耗低、抗干扰能力强等诸多优点而成为主流器件。对吗?


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  • 第1题:

    什么是NMOS、PMOS、CMOS?什么是增强型、耗尽型?什么是PNP、NPN?他们有什么差别?(仕兰微面试题目)


    正确答案:
     

  • 第2题:

    在MOS逻辑电路中,由PMOS管组成的与非门电路叫做()。

    • A、互补MOS与非门电路
    • B、CMOS与非门电路

    正确答案:A

  • 第3题:

    MOS集成电路按其形式有NMOS和PMOS两种。


    正确答案:错误

  • 第4题:

    采用了()门电路后,其比PMOS和NMOS门电路的功耗更低,速度更快。


    正确答案:CMOS

  • 第5题:

    单极型集成电路可分为()几种。

    • A、TTL型
    • B、TDK型
    • C、PMOS型
    • D、NMOS型
    • E、CMOS型

    正确答案:C,D,E

  • 第6题:

    单极性集成电路包括()

    • A、TTL集成电路
    • B、PMOS集成电路
    • C、NMOS集成电路
    • D、CMOS集成电路

    正确答案:B,C,D

  • 第7题:

    下列场效应管中,无原始导电沟道的为()。

    • A、N沟道JFET
    • B、增强~AIPMOS管
    • C、耗尽型NMOS管
    • D、耗尽型PMOS管

    正确答案:B

  • 第8题:

    对于数字表中的PMOS集成电路,检修时应注意将焊接烙铁、测试仪表()。电路工作时,不科厨的输入端必须根据逻辑要求()。电路存放时应采用金属屏蔽。


    正确答案:接地;接电源或接地

  • 第9题:

    填空题
    MOS场效应晶体管的开启电压指的是:()。所以,NMOS管的开启电压为(),PMOS管的开启电压为()。

    正确答案: MOS管栅下半导体表面开始强反型时的栅极电压,正,负
    解析: 暂无解析

  • 第10题:

    问答题
    请以PMOS晶体管为例解释什么是衬偏效应,并解释其对PMOS晶体管阈值电压和漏源电流的影响。

    正确答案: 对于PMOS晶体管,通常情况下衬底和源极都接最高电位,衬底偏压,此时不存在衬偏效应。而当PMOS中因各种应用使得源端电位达不到最高电位时,衬底偏压>0,源与衬底的PN结反偏,耗尽层电荷增加,要维持原来的导电水平,必须使阈值电压(绝对值)提高,即产生衬偏效应。
    影响:使得PMOS阈值电压向负方向变大,在同样的栅源电压和漏源电压下其漏源电流减小。
    解析: 暂无解析

  • 第11题:

    问答题
    同宽长比的PMOS和NMOS谁的阈值要大一些?

    正确答案: 同宽长比的PMOS的阈值要大一些
    解析: 暂无解析

  • 第12题:

    单选题
    在MOS逻辑电路中,由PMOS管组成的与非门电路叫做()。
    A

    互补MOS与非门电路

    B

    CMOS与非门电路


    正确答案: B
    解析: 暂无解析

  • 第13题:

    由下列器件构成的模拟开关中,导通电阻最低的是( )。

    A.CMOS场效应管

    B.PMOS场效应管

    C.NMOS场效应管

    D.二簧继电器


    正确答案:D

  • 第14题:

    下列说法错误的是()

    • A、双极型数字集成门电路是以场效应管为基本器件构成的集成电路
    • B、TTL逻辑门电路是以晶体管为基本器件构成的集成电路
    • C、CMOS集成门电路集成度高,但功耗较高
    • D、TTL集成门电路集成度高,但功耗较低
    • E、TTL集成门电路集成度高,但功耗较高

    正确答案:A,C,D

  • 第15题:

    在CMOS电路中,通常包含两个增强型的PMOS管,一个作为驱动管,一个作为负载管。


    正确答案:错误

  • 第16题:

    按导电类型集成电路可分()。

    • A、PMOS型
    • B、双极和单极二者兼容型
    • C、CMOS型
    • D、双极型
    • E、单极型

    正确答案:B,D,E

  • 第17题:

    CMOS数字集成电路与TTL数字集成电路相比突出的优点是()

    • A、微功耗
    • B、高速度
    • C、高抗干扰能力
    • D、电源范围宽

    正确答案:A,C,D

  • 第18题:

    下列门电路工作速度最快的一种是()。

    • A、TTL
    • B、CMOS
    • C、NMOS
    • D、PMOS

    正确答案:A

  • 第19题:

    下列说法错误的是()。 

    • A、双极型数字集成门电路是以场效应管为基本器件构成的集成电路
    • B、TTL逻辑门电路是以晶体管为基本器件构成的集成电路
    • C、CMOS集成门电路集成度高,但功耗较高
    • D、CMOS集成门电路集成度高,但功耗较低
    • E、TTL集成门电路集成度高,但功耗较低

    正确答案:A,C,E

  • 第20题:

    填空题
    现代主流的集成电路加工技术为CMOS工艺,即最基本的器件是由()和NMOS组成。

    正确答案: PMOS
    解析: 暂无解析

  • 第21题:

    问答题
    NMOS和PMOS的源漏如何形成的?

    正确答案: NMOS是在P型衬底上,通过选择掺杂形成N型的掺杂区,作为NMOS的漏源区;PMOS是在N型衬底上,通过选择掺杂形成P型的掺杂区,作为PMOS的漏源区。
    解析: 暂无解析

  • 第22题:

    问答题
    为什么NMOS工艺优于PMOS工艺?

    正确答案: N沟道FET的速度将比P沟道FET快2.5倍
    解析: 暂无解析

  • 第23题:

    填空题
    MOS型集成电路又分为NMOS、PMOS、()型。

    正确答案: CMOS
    解析: 暂无解析

  • 第24题:

    多选题
    CMOS数字集成电路与TTL数字集成电路相比突出的优点是()。
    A

    微功耗

    B

    高速度

    C

    高抗干扰能力

    D

    电源范围宽


    正确答案: C,B
    解析: 暂无解析