关于经典恒温法的正确表述( )A、经典恒温法的理论依据是Arrhenius公式：B、k是药物降解的速度常数C、E是药物降解的活化能D、k值越小药物越稳定E、E值越大药物越不稳定

题目

关于经典恒温法的正确表述( )

A、经典恒温法的理论依据是Arrhenius公式：

B、k是药物降解的速度常数

C、E是药物降解的活化能

D、k值越小药物越稳定

E、E值越大药物越不稳定

相似考题

1.用于药物稳定性研究的经典恒温法的理论依据是( )。A．Arrhenius 方程B．Noyes 方程C．Higuchi 方程D．双H方程E．B.ronsted-Lowry方程

2.关于药物制剂稳定性的叙述正确的是A、药物的降解速度与离子强度无关B、液体制剂的辅料影响药物稳定性，而固体制剂的辅料不影响药物的稳定性C、药物的降解速度与溶剂无关D、零级反应的速度与反应物浓度无关E、经典恒温法适用于所有药物的稳定性研究

3.关于Arrhenius方程的叙述，正确的是A、Arrhenius方程的对数形式为B、K是药物降解的速度常数C、E是药物降解的活化能D、K值越大药物越不稳定E、E值越大药物越不稳定

4.经典恒温法的理论依据是( )A．Arrhenius公式B．Vant Hoff规则C．Fick"s扩散定律D．三者均是E．三者均不是

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  • 第1题：

    用于药物稳定性研究的经典恒温法的理论依据是（ ）。

    A．Arrhenius方程

    B．Noyes方程

    C．Higuchi方程

    D．双H方程

    E．B.ronsted-Lowry方程


    正确答案：A
    解析：药物稳定性的试验方法

  • 第2题：

    关于药物制剂稳定性的叙述，正确的是

    A:药物的降解速度与离子强度无关
    B:液体制剂的辅料影响药物稳定性，而固体制剂的辅料不影响药物的稳定性
    C:药物的降解速度与溶剂无关
    D:零级反应的速度与反应物浓度无关
    E:经典恒温法适用于所有药物的稳定性研究

    答案：D
    解析：
    本题考查药物制剂的稳定性影响因素。药物制剂的稳定性实质上是药物制剂在制备和贮藏期间是否发生质量变化的问题。影响因素有：①处方因素，包括pH的影响、广义酸碱催化、溶剂影响、离子强度的影响、表面活性剂的影响、处方中辅料的影响；②环境的影响，包括温度、光线、空气中的氧和金属离子、湿度和水分、包装材料的影响。对于零级反应，它的速度与速率常数有关，与反应物浓度无关。经典恒温法一般用于新药的申请。

  • 第3题：

    填空题 经典恒温法的理论依据是 。


    A

  • 第4题：

    经典恒温法进行稳定性加速试验依据的公式是A.Noyes—Whitey公式B.Poiseuile公式

    经典恒温法进行稳定性加速试验依据的公式是

    A.Noyes—Whitey公式

    B.Poiseuile公式

    C.Henderson—Hasselbaleh方程

    D.Ostwald Freundlich方程

    E.Arrhenius公式


    正确答案：E
    本题考查的常用公式方程。经典恒温法(药物的降解速度与温度的关系Arrhenius公式k=Ae—E／RTk：药物降解速率常数由此可药物于不同温度下的半衰期：tl／2=0．693／k有效期：t0．9=0．1054／k。PH分配假说，其关系式可用Henderson—HasselbalCh缓冲方程式表OstwaldFreundliCh方程式表溶解过程符合Noyes—whitney方程dC／dt=(DS／h)(Cs—C)D：扩散系数，D=(T)，TT，DT，dC／dtt。S：与溶液接触面积，粒子rl，st，dC／dtT。h：扩散层厚度，搅拌速度Vt，h1，dC／dtt。Cs：饱和层浓度(药物溶解度)。C：扩散层浓度。

  • 第5题：

    用于药物稳定性研究的经典恒温法的理论依据是

    A.双H方程
    B.Higuchi方程
    C.Arrhenius方程
    D.三H方程
    E.Nernst方程

    答案：C
    解析：

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