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错误
更多“22、利用三氯氢硅的氢还原法可以制备单晶硅。”相关问题
  • 第1题:

    采用单晶硅的压阻式压力变送器采用单晶硅片为弹性元件,在单晶硅膜片上利用集成电路的工艺,在单晶硅的特定方向扩散一组()电阻,并将电阻接成桥路。

    • A、不等值
    • B、等值
    • C、线性值
    • D、非线性值

    正确答案:B

  • 第2题:

    叙述从硅砂到单晶硅棒和多晶硅锭的主要步骤及其相关制备工艺名称。


    正确答案: (1)使用电炉用炭将硅砂还原为冶金级硅;
    (2)冶金级硅提纯为半导体级硅:西门子法和ASiMi法(硅烷法);
    (3)半导体级多晶硅原材料转变成单晶硅和多晶硅:单晶硅的制备主要有直拉单晶法(CZ法)和浮融(FZ-FloatZonE.法。铸造多晶硅有三种主要的方法有Bridgman法、铸锭法和电磁铸造法(MEC.。

  • 第3题:

    煤的组成主要的元素有碳、氧、氮、氢和()。

    • A、氯
    • B、硫
    • C、硅

    正确答案:B

  • 第4题:

    地壳中含量最高的3种元素为()

    • A、氢、氧、硅
    • B、氧、硅、铝
    • C、氢、氧、铝
    • D、氢、铝、硅

    正确答案:B

  • 第5题:

    铜基催化剂还原的方法有()

    • A、低氢还原法、无氢还原法
    • B、低氢还原法、高氢还原法
    • C、高氢还原法、高氢还原法

    正确答案:B

  • 第6题:

    ()是将熔融后的多晶硅与单晶硅的结晶进行接触,边缓慢旋转提拉,使结晶生长,最后得到长棒形状的单晶硅。

    • A、直拉法
    • B、铸锭法
    • C、西门子法
    • D、三氯氢硅还原法

    正确答案:A

  • 第7题:

    工业中单晶硅的制备方法主要有()和区熔法(FZ法)


    正确答案:直拉单晶法(CZ法或切克劳斯基法)

  • 第8题:

    以下是制备a-SI的方法是()

    • A、三氯氢硅还原法
    • B、辉光放电法
    • C、硅烷热分解法
    • D、四氯化硅还原法

    正确答案:B

  • 第9题:

    用碱性溶液,利用()的差异性,可以对单晶硅表面进行棱状凹凸加工处理。


    正确答案:单晶硅表面刻蚀速度

  • 第10题:

    填空题
    提拉出合格的单晶硅棒后,还要经过()、()、()等工序过程方可制备出符合集成电路制造要求的硅衬底片。

    正确答案: 切片,研磨,抛光
    解析: 暂无解析

  • 第11题:

    问答题
    氢还原法的特点

    正确答案: 氢的利用率不可能达到完全;在还原金属高价氧化物的过程中会有一系列含氧不同的较低价态的金属氧化物出现;在不同反应温度下还原制得的金属的物理性质和化学性质不同。
    解析: 暂无解析

  • 第12题:

    单选题
    地壳中含量最高的3种元素为()
    A

    氢、氧、硅

    B

    氧、硅、铝

    C

    氢、氧、铝

    D

    氢、铝、硅


    正确答案: B
    解析: 暂无解析

  • 第13题:

    生命作为能量利用体系是以()为骨架的。

    • A、氧
    • B、氢
    • C、硅
    • D、碳

    正确答案:D

  • 第14题:

    用氢还原氧化物的特点是什么?在氢还原法制钨的第三阶段中,温度高于1200的反应会发生什么变化?


    正确答案:氢还原氧化物的特点:
    1.氢的利用率不可能达到完全。
    2.在换元金属高价氧化物的过程中会有一系列含氧不同的较低价态的金属氧化物出现。
    3.在不同的反应温度下还原制的金属的物理性质和化学性质不同

  • 第15题:

    地壳中含量最高的三种元素是()

    • A、氢、铁、铝
    • B、氧、硅、铝
    • C、氧、铁、铝
    • D、氢、硅、铝

    正确答案:B

  • 第16题:

    钢中的有害杂质元素有()。

    • A、硅、钙
    • B、氯、硫
    • C、氢
    • D、硫、磷

    正确答案:D

  • 第17题:

    糖是由()三种元素组成的。

    • A、碳、氢、氧
    • B、氮、氢、氧
    • C、氯、氢、氧
    • D、氟、氢、氧

    正确答案:A

  • 第18题:

    下列属于制作非晶硅太阳电池常用的方法的是()。

    • A、三氯氢硅还原法
    • B、辉光放电法
    • C、硅烷热分解法
    • D、四氯化硅还原法

    正确答案:B

  • 第19题:

    目前多晶硅原料的制备方法主要有三氯氢硅法(改良西门子法)和()两种方法。


    正确答案:硅烷法

  • 第20题:

    下面哪种不是单晶硅的制备方法()。

    • A、硅带法
    • B、区熔法
    • C、直拉单晶法
    • D、磁拉法

    正确答案:A

  • 第21题:

    单选题
    地壳中含量最高的三种元素是()
    A

    氢、铁、铝

    B

    氧、硅、铝

    C

    氧、铁、铝

    D

    氢、硅、铝


    正确答案: C
    解析: 暂无解析

  • 第22题:

    问答题
    将圆柱形的单晶硅锭制备成硅片需要哪些工艺流程?

    正确答案: 整形处理,切片,磨片和倒角,刻蚀,抛光,清洗,硅片评估,包装。
    解析: 暂无解析

  • 第23题:

    填空题
    集成电路用单晶硅的主要制备方法是()

    正确答案: 提拉法和区熔法
    解析: 暂无解析

  • 第24题:

    单选题
    将硅砂转化成可用多晶硅的形式纰谬的是()
    A

    四氯化硅法

    B

    三氯氢硅法

    C

    氯化钾法

    D

    硅烷法


    正确答案: C
    解析: 暂无解析