EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。A水量；水质B水质；TESCTEA；水量DTES；水量

题目
EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。

A水量；水质

B水质；TES

CTEA；水量

DTES；水量

相似考题

1.EDI组件最佳工作电流与给水的()和纯水()要求有关。A.水量B.水质C.TEAD.TES

2.过高的给水TES导致EDI组件内部树脂工作界面向出水端迁移，这导致抛光树脂量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。A对B错

3.为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比（）压力高。A浓水出口B极水出口C给水D浓水和极水出口

4.如果EDI组件电流升高或给水离子总量减少，离子交换树脂的工作前沿将向出水端移动，抛光层树脂总量增加。A对B错

参考答案和解析
B
略
更多“EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。”相关问题

  • 第1题：

    EDI组件给水电导率升高，离子交换树脂的工作前沿将向给水端移动，抛光层树脂总量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。

    A对

    B错


    错
    略

  • 第2题：

    为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI（）补充。

    • A、浓水
    • B、极水
    • C、淡水
    • D、给水

    正确答案:D

  • 第3题：

    EDI组件给水中的悬浮物和胶体会引起膜和树脂的污染和堵塞，树脂间隙的堵塞导致EDI组件的压力损失增加。


    正确答案:正确

  • 第4题：

    EDI组件给水电导率升高，离子交换树脂的工作前沿将向给水端移动，抛光层树脂总量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。


    正确答案:错误

  • 第5题：

    EDI组件给水中的悬浮物和胶体会引起膜和树脂的污染和堵塞，树脂间隙的堵塞导致EDI组件的（）增加。

    • A、电流损失
    • B、电压损失
    • C、压力损失
    • D、树脂损失

    正确答案:C

  • 第6题：

    EDI组件最佳工作电流与给水的TES和纯水水质要求有关。


    正确答案:正确

  • 第7题：

    多选题
    EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。
    A

    水量

    B

    水质

    C

    TEA

    D

    TES


    正确答案： D,B
    解析： 暂无解析

  • 第8题：

    单选题
    EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。
    A

    水量；水质

    B

    水质；TES

    C

    TEA；水量

    D

    TES；水量


    正确答案： D
    解析： 暂无解析

  • 第9题：

    判断题
    EDI组件给水电导率升高，离子交换树脂的工作前沿将向给水端移动，抛光层树脂总量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 对
    解析： 暂无解析

  • 第10题：

    判断题
    如果EDI组件电流降低或给水离子总量增加，离子交换树脂的工作前沿将向出水端移动，抛光层树脂总量增加。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 错
    解析： 暂无解析

  • 第11题：

    单选题
    为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比（）压力高。
    A

    浓水出口

    B

    极水出口

    C

    给水

    D

    浓水和极水出口


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第12题：

    单选题
    EDI组件给水中的悬浮物和胶体会引起膜和树脂的污染和堵塞，树脂间隙的堵塞导致EDI组件的（）增加。
    A

    电流损失

    B

    电压损失

    C

    压力损失

    D

    树脂损失


    正确答案： C
    解析： 暂无解析

  • 第13题：

    EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。

    • A、水量；水质
    • B、水质；TES
    • C、TEA；水量
    • D、TES；水量

    正确答案:B

  • 第14题：

    EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。

    • A、水量
    • B、水质
    • C、TEA
    • D、TES

    正确答案:B,D

  • 第15题：

    如果EDI组件电流升高或给水离子总量减少，离子交换树脂的工作前沿将向出水端移动，抛光层树脂总量增加。


    正确答案:错误

  • 第16题：

    EDI工作电流与EDI组件中（）成正比。

    • A、电压
    • B、给水水量
    • C、离子迁移数量
    • D、电压梯度

    正确答案:C

  • 第17题：

    如果EDI组件电流升高或给水离子总量减少，离子交换树脂的工作前沿将向（）端移动，抛光层树脂总量（）。

    • A、增加；减少
    • B、减少；出水
    • C、出水；增加
    • D、给水；增加

    正确答案:D

  • 第18题：

    过高的给水TES导致EDI组件内部树脂工作界面向出水端迁移，这导致抛光树脂量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。


    正确答案:正确

  • 第19题：

    单选题
    如果EDI组件电流升高或给水离子总量减少，离子交换树脂的工作前沿将向（）端移动，抛光层树脂总量（）。
    A

    增加；减少

    B

    减少；出水

    C

    出水；增加

    D

    给水；增加


    正确答案： D
    解析： 暂无解析

  • 第20题：

    单选题
    EDI组件给水电导率升高，离子交换树脂的工作前沿将向（）端移动，抛光层树脂总量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。
    A

    增加

    B

    减少

    C

    出水

    D

    给水


    正确答案： D
    解析： 暂无解析

  • 第21题：

    单选题
    EDI工作电流与EDI组件中（）成正比。
    A

    电压

    B

    给水水量

    C

    离子迁移数量

    D

    电压梯度


    正确答案： B
    解析： 暂无解析

  • 第22题：

    判断题
    过高的给水TES导致EDI组件内部树脂工作界面向出水端迁移，这导致抛光树脂量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 对
    解析： 暂无解析

  • 第23题：

    单选题
    为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI（）补充。
    A

    浓水

    B

    极水

    C

    淡水

    D

    给水


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

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