初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、不必处理B、腭杆组织面加白凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、去腭杆，让患者戴走E、取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

题目

初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是

A、不必处理

B、腭杆组织面加白凝树脂重衬

C、腭杆组织面缓冲

D、去腭杆，让患者戴走

E、取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

相似考题

1.患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

2.一患者上颌局部义齿修复。初戴时，发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是A．不必处理B．腭杆组织面加自凝树脂重衬C．腭杆组织面缓冲D．去除腭杆，让患者将义齿戴走E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

3.一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

4.一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A、不做处理，让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

参考答案和解析
参考答案：E
更多“初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、不必处理B、腭杆组织面加白 ”相关问题

  • 第1题：

    一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是

    A．不做处理，让患者将义齿戴走

    B．腭杆组织面加自凝树脂重衬

    C．腭杆组织面缓冲

    D．取下腭杆

    E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆


    正确答案：C
    (答案：E)腭杆与粘膜间间隙过大，患者感觉不舒适，且容易嵌塞食物，应取下重新制作。

  • 第2题：

    一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是

    A.不做处理
    B.腭杆组织面加自凝树脂重衬
    C.基托组织面缓冲
    D.取下腭杆，用自凝树脂修补缺口
    E.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

    答案：E
    解析：

  • 第3题：

    一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是

    A.腭杆组织面缓冲
    B.取下腭杆
    C.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
    D.不做处理，让患者把义齿戴走
    E.腭杆组织面加自凝树脂重衬

    答案：C
    解析：

  • 第4题：

    一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是( )。

    A、取下腭杆

    B、腭杆组织面缓冲

    C、腭杆组织面加自凝树脂重衬

    D、不做任何处理

    E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆


    参考答案：E

  • 第5题：

    初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是

    A.不必处理
    B.取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
    C.腭杆组织面加白凝树脂重衬
    D.去腭杆，让患者戴走
    E.腭杆组织面缓冲

    答案：B
    解析：

相关内容