上颌后堤区的形成方法,不正确的是
A、上颌后堤区的宽度在中间区域可达4~5mm
B、上颌后堤区位于前后颤动线之间
C、用蜡刀沿后缘线刻入模型深3~5mm
D、一般在腭小凹与两侧翼上颌切迹连线后约2mm处为后堤区后缘
E、两侧牙槽嵴越浅
第1题:
对上颌全口义齿后堤区的描述。以下哪项错误
A、后堤区可在口内形成
B、后堤区在后颤动线之后
C、后堤区平均宽8mm
D、腭穹窿较高,后堤区较窄
E、后堤区有利于边缘封闭
第2题:
对无牙颌模型的处理,不正确的是
A、边缘有一定的宽度,3~4mm
B、可形成上颌后堤区
C、模型厚度3~4mm
D、下颌可不制作后堤区
E、后堤区应刮除石膏少许
第3题:
第4题:
上颌后堤区的形成方法,不正确的是
A、上颌后堤区的宽度在中间区域可达4~5mm
B、上颌后堤区位于前后颤动线之间
C、用蜡刀沿后缘线刻入模型深3~5mm
D、一般在腭小凹与两侧翼上颌切迹连线后约2mm处为后堤区后缘
E、上颌后堤区越靠近腭中缝、两侧牙槽嵴越浅
第5题: