采用散射膜进行二次曝光除脏时,应采用()进行曝光,然后以主曝光时间的一半进行除脏曝光。A.比标准曝光时间减少1/5的时间B.比标准曝光时间增加1/5的时间C.比标准曝光时间减少1/2的时间D.比标准曝光时间增加1/2的时间

题目
采用散射膜进行二次曝光除脏时,应采用()进行曝光,然后以主曝光时间的一半进行除脏曝光。

A.比标准曝光时间减少1/5的时间

B.比标准曝光时间增加1/5的时间

C.比标准曝光时间减少1/2的时间

D.比标准曝光时间增加1/2的时间


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    C.打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶

    D.打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶、刻蚀


    打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶

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    光刻工艺是按照下列()流程顺序进行操作。

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    B.气相成底膜、软烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、刻蚀、检查

    C.气相成底膜、涂胶、软烘、曝光、显影、坚膜、检查、刻蚀

    D.涂胶、软烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、检查


    打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶

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    D

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    中灰色##%_YZPRLFH_%##中性灰色##%_YZPRLFH_%##中灰##%_YZPRLFH_%##中性灰

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    7、单反相机曝光参数获得以后,进行曝光锁定,获得的参数在曝光锁定后持续的时间是5秒钟。


    错误