5、集成电路的对等性设计要求A．高电平输出电阻与低电平输出电阻相同B．输出高电平容限与输出低电平容限相同C．高电平输出电流与低电平输出电流相同D．高电平驱动能力与低电平驱动能力相同

题目

5、集成电路的对等性设计要求

A．高电平输出电阻与低电平输出电阻相同

B．输出高电平容限与输出低电平容限相同

C．高电平输出电流与低电平输出电流相同

D．高电平驱动能力与低电平驱动能力相同

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1.对权利客体的新颖性、创造性要求最高的知识产权是（）。A.著作权B.专利权C.商标权D.集成电路布国设计权

2.以下关于集成电路布图设计的说法错误的有（ ） A.集成电路布图设计的主体是指依法对集成电路布图设计享有专有权的自然人法人或其他组织。B.客体是集成电路而不是布图设计。C.受保护的集成电路布图设计应该具有独创性。D.受保护的集成电路布图设计不能是显而易见的

3.集成电路布图设计专有权的行使包括? A.集成电路布图设计专有权的转让B.集成电路布图设计专有权的许可C.集成电路布图设计专有权的合理利用D.集成电路布图设计专有权的反向工程

4.根据集成电路布图设计保护条例的规定，下列哪些说法是正确的?A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作

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  • 第1题：

    有关集成电路布图设计下列说法错误的是（ ）

    A.集成电路布图设计又称工艺技术

    B.集成电路布图设计又称掩模作品

    C.集成电路布图设计是附着与各种载体上的电子元件和连接这些电子元件的连线的有关布局设计。

    D.集成电路布图设计又称拓扑图

    答案：A
    解析：
    本题考查集成电路布图设计基本概念

    集成电路包括布图设计和工艺技术

    BCD说法正确，A说法错误。

  • 第2题：

    被保护的集成电路布图设计应当具有（）

    • A、新颖性
    • B、独创性
    • C、显著性

    正确答案:C

  • 第3题：

    我国规定集成电路布图设计权的保护期限最长为（）

    • A、5年
    • B、10年
    • C、15年
    • D、20年

    正确答案:C

  • 第4题：

    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）

    • A、对受保护的布图设计的全部进行复制
    • B、对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制
    • C、将受保护的布图设计投入商业利用
    • D、将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用

    正确答案:A,B,C,D

  • 第5题：

    对权利客体的新颖性、创造性要求最高的知识产权是（）。

    • A、著作权
    • B、专利权
    • C、商标权
    • D、集成电路布国设计权

    正确答案:B

  • 第6题：

    被保护的集成电路布图设计应当具有什么性？


    正确答案: 独创性

  • 第7题：

    多选题
    下列关于集成电路布图设计保护，正确的说法是（）
    A

    保护原创性

    B

    要求使用、登记和公开

    C

    保护其复制权

    D

    进口权、销售权

    E

    分销权


    正确答案： D,B
    解析： 暂无解析

  • 第8题：

    单选题
    被保护的集成电路布图设计应当具有（）。
    A

    新颖性

    B

    独创性

    C

    显著性


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第9题：

    多选题
    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）
    A

    对受保护的布图设计的全部进行复制

    B

    对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制

    C

    将受保护的布图设计投入商业利用

    D

    将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用


    正确答案： C,A
    解析： 暂无解析

  • 第10题：

    填空题
    集成电路制造与集成电路设计相关纽带是（）

    正确答案： 光刻掩膜版
    解析： 暂无解析

  • 第11题：

    多选题
    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人甲公司可以要求行为人停止下列哪些未经其许可的行为？（）
    A

    某大学教授赵某为教学目的而复制甲公司受保护的布图设计

    B

    乙公司将自己独立创作的与甲公司受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用

    C

    丙公司为商业目的复制甲公司受保护的布图设计中具有独创性的部分

    D

    丁公司为商业目的销售含有甲公司受保护的布图设计的集成电路


    正确答案： D,A
    解析： 暂无解析

  • 第12题：

    多选题
    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，申请人以书面形式申请集成电路布图设计登记的，应当提交下列哪些文件或者物品？（）
    A

    集成电路布图设计登记申请表

    B

    集成电路布图设计的说明书和权利要求书

    C

    集成电路布图设计的复制件或者图样

    D

    集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品


    正确答案： D,B
    解析： 暂无解析

  • 第13题：

    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列说法正确的是（）。

    A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性

    B.集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生

    C.对集成电路布图没计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等

    D.集成电路布图设计专有权的保护期为十五年

    E.布图设计权利人在许可他人使用其布图设计时，当事人之间应当订立书面的许可使用合同

    答案：A,B,C,E
    解析：
    《集成电路布图设计保护条例》第4条：“受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。”选项A正确。

    《集成电路布图设计保护条例》第5条：“本条例对布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。”选项C正确。

    《集成电路布图设计保护条例》第8条：“布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。未经登记的布图设计不受本条例保护。”选项B正确。

    《集成电路布图设计保护条例》第12条：“布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。”选项D错误。布图设计权利人在许可他人使用其布图设计时，当事人之间应当订立书面的许可使用合同。E选项正确，

  • 第14题：

    根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些说法是正确的？（）

    • A、受保护的集成电路布图设计应当是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计
    • B、受保护的集成电路布图设计应当富有美感
    • C、对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等
    • D、集成电路布图设计专有权自创作完成之日起产生

    正确答案:A,C

  • 第15题：

    集成电路布图设计


    正确答案:集成电路布图设计(以下简称布图设计)，就是集成电路的拓扑图（integrated circuit designs）是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

  • 第16题：

    我国保护集成电路布图设计的法律法规是（）。

    • A、《集成电路布图设计保护条例》
    • B、《集成电路布图设计保护法》
    • C、《专利法》

    正确答案:A

  • 第17题：

    下列关于集成电路布图设计保护，正确的说法是（）

    • A、保护原创性
    • B、要求使用、登记和公开
    • C、保护其复制权
    • D、进口权、销售权
    • E、分销权

    正确答案:A,B,C,D,E

  • 第18题：

    问答题
    被保护的集成电路布图设计应当具有什么性？

    正确答案： 独创性
    解析： 暂无解析

  • 第19题：

    单选题
    对权利客体的新颖性、创造性要求最高的知识产权是（）。
    A

    著作权

    B

    专利权

    C

    商标权

    D

    集成电路布国设计权


    正确答案： B
    解析： 暂无解析

  • 第20题：

    单选题
    在集成电路加工制造中，通常所指前道工艺为（）
    A

    集成电路制造（晶圆加工）

    B

    集成电路封装

    C

    集成电路测试

    D

    集成电路设计


    正确答案： B
    解析： 暂无解析

  • 第21题：

    填空题
    集成电路制造通常包括集成电路设计、工艺加工、（）、封装等工序。

    正确答案： 测试
    解析： 暂无解析

  • 第22题：

    单选题
    我国保护集成电路布图设计的法律法规是（）。
    A

    《集成电路布图设计保护条例》

    B

    《集成电路布图设计保护法》

    C

    《专利法》


    正确答案： B
    解析： 暂无解析

  • 第23题：

    问答题
    什么是集成电路设计？集成电路的设计方法有哪些？

    正确答案： 根据电路功能和性能的要求，在正确选择系统配置、电路形式、器件结构、工艺方案和设计规则的情况下，尽量减小芯片面积，降低设计成本，缩短设计周期，以保证全局优化，设计出满足要求的集成电路。设计方法：层级设计，全定制法，半定制法，PLD。
    解析： 暂无解析

  • 第24题：

    填空题
    大规模集成电路的设计流程包括：需求分析、（）设计、体系结构设计、功能设计、（）设计、可测性设计、（）设计等。

    正确答案： 系统,逻辑,版图（或软件）
    解析： 暂无解析

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