布图设计已经投入商业利用的，在申请布图设计登记之时，申请人应该提交含有该布图设计的（）。A.文字资料B.集成电路样品C.设计原稿D.布图设计图纸

题目

布图设计已经投入商业利用的，在申请布图设计登记之时，申请人应该提交含有该布图设计的（）。

A.文字资料

B.集成电路样品

C.设计原稿

D.布图设计图纸

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1.在我国，集成电路布图设计专有权的保护期为（）.A.10年，自布图设计创作完成之日起计算B.15年，自布图设计登记申请之日起计算C.15年，自布图设计首次投入商业利用之日起计算D.10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算

2.在我国，布图设计专有权的保护期为几年？无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起几年后，不再受保护？

3.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计专有权。( )

4.关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。A.该布图设计必须投入商业实施B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中C.布图设计应具有独创性D.受保护的布图设计必须办理登记手续

更多“布图设计已经投入商业利用的，在申请布图设计登记之时，申请人应该提交含有该布图设计的（）。 ”相关问题

  • 第1题：

    任何未经布图设计权利人许可将复制的布图设计投入商业利用的，都是侵权行为。( )


    正确答案：错误

  • 第2题：

    下列（ ）不是申请人办理集成电路布图设计登记必须提交的文件。

    A.图样

    B.图样的目录

    C.集成电路布图设计专有权登记申请表

    D.布图设计的简要说明

    答案：D
    解析：
    申请人办理集成电路布图设计登记必须提交的文件：（1）集成电路布图设计专有权登记申请表一份；（2）图样一份；（3）图样的目录一份。

  • 第3题：

    8、下列选项中不能获得我国集成电路布图设计权的有：（）

    A．布图设计不具有独创性

    B．由常规设计组成的布图设计，但其组合作为整体具有独创性

    C．布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起3年后在中国申请

    D．外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用


    布图设计不具有独创性;布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起3年后在中国申请

  • 第4题：

    无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受《集成电路布图设计条例》保护。( )


    正确答案：正确

  • 第5题：

    在我国，布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。（）


    10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算

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