关于电离室控时自动曝光控制,下列叙述错误的是A.利用气体的电离效应B.X线强度大时，电离电流大C.X线强度大时，曝光时间长D.电容充电电流与X线曝光量呈反比E.电离电流小时，曝光时间长

题目
关于电离室控时自动曝光控制,下列叙述错误的是

A.利用气体的电离效应

B.X线强度大时，电离电流大

C.X线强度大时，曝光时间长

D.电容充电电流与X线曝光量呈反比

E.电离电流小时，曝光时间长

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1.关于电离室控时自动曝光控制叙述错误的是A、利用气体的电离效应B、X线强度大时，电离电流大C、X线强度大时，曝光时间长D、电容充电电流与X线曝光量成反比E、电离电流小时，曝光时间长

2.关于自动曝光控制(AEC)的解释，错误的是A、根据被照体厚薄预先确定曝光量B、有电离室式探测器C、AEC的管电压特性与所用屏/片体系的管电压特性有关D、有半导体式探测器E、探测器的采光野位置应根据摄影部位选择

3.下列关于自动曝光控制的叙述，错误的是A.可采用荧光体型探测器B.可采用电离室型探测器C.可减少人为条件选择不当的失误D.可自动切断X线的产生E.多在一钮制设备中使用

4.自动曝光控制系统，探测器的种类有A、液体探测器B、液体探测器C、电离室探测器D、晶体探测器E、金属探测器

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  • 第1题：

    关于电离室自动曝光控制叙述错误的是

    A.利用气体的电离效应

    B.X线强度大时，电离电流大

    C.X线强度大时，曝光时间短

    D.电容充电电流与X线曝光量成反比

    E.电离电流小时，需要的曝光时间长


    正确答案：D

  • 第2题：

    自动曝光控制的电离室利用了X线的

    A.穿透作用

    B.荧光作用

    C.生物作用

    D.电离作用

    E.感光效应


    参考答案：D

  • 第3题：

    关于自动曝光量控制(AEC)的叙述，错误的是

    A．被照体很薄时，AEC也可立即切断X线

    B．探测器有电离室式、半导体、荧光体三种

    C．AEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关

    D．探测器置于屏胶体系之前还是之后，效果不一样

    E．探测器的探测野位置、形状、数量应根据摄影部位选择


    正确答案：B
    B。自动曝光控时分为光电管自动曝光控时和电离室自动曝光控时两种方式。

  • 第4题：

    电离室自动曝光控时利用了

    A、光电效应

    B、气体电离

    C、计时器定时

    D、康普顿效应

    E、呼吸同步


    参考答案：B

  • 第5题：

    关于膝关节前后正位成像技术标准的叙述，错误的是

    A．滤线栅：(-)

    B．屏-片体系感度：标称感度200

    C．摄影距离：100～120cm

    D．自动曝光控制：(+)

    E．曝光时间：＜200ms


    正确答案：E

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