什么是NMOS、PMOS、CMOS?什么是增强型、耗尽型?什么是PNP、NPN?他们有什么差别?(仕兰微面试题目)
第1题:
描述你对集成电路设计流程的认识。(仕兰微面试题目)
第2题:
列举几种集成电路典型工艺。工艺上常提到0.25,0.18指的是什么?(仕兰微面试题目
)
第3题:
描述CMOS电路中闩锁效应产生的过程及最后的结果?(仕兰微面试题目)
第4题:
中断的概念?简述中断的过程。(仕兰微面试题目)
第5题:
你认为你从事研发工作有哪些特点?(仕兰微面试题目)
第6题:
结型场效应管可分为()。
第7题:
绝缘栅场效应管也有两种结构形式,它们是N沟道型和P沟道型。无论是什么沟道,它们又分为增强型和耗尽型两种
第8题:
()具有不同的低频小信号电路模型。
第9题:
单极性集成电路包括()
第10题:
下列场效应管中,无原始导电沟道的为()。
第11题:
第12题:
第13题:
描述你对集成电路工艺的认识。(仕兰微面试题目)
第14题:
半导体工艺中,掺杂有哪几种方式?(仕兰微面试题目)
第15题:
PCI总线的含义是什么?PCI总线的主要特点是什么? (仕兰微面试题目)
第16题:
请简要描述HUFFMAN编码的基本原理及其基本的实现方法。(仕兰微面试题目)
第17题:
什么是CMOS门电路?它有什么特点?
第18题:
什么是CMOS技术?什么是 ASIC?
第19题:
在CMOS电路中,通常包含两个增强型的PMOS管,一个作为驱动管,一个作为负载管。
第20题:
单极型集成电路可分为()几种。
第21题:
当UGS=0时,()管不可能工作在恒流区。
第22题:
CMOS反相器基本电路包括()
第23题: