参考答案和解析
正确答案:B
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  • 第1题:

    内存按字节编制从A5000H到DCFFFH的区域其存储容量为 ( )。

    A.123KB
    B.180KB
    C.223KB
    D.224KB

    答案:D
    解析:
    该题可全部化为2进制计算或直接使用十六进制计算,下面以十六进制为例:1求二者之间容量,前后相减,由于首尾字节本身要占用位置,因此注意要加个1,结果为十六进制。DCFFFH-A5000H+1=38000H,
    2.十六进制转十进制。3*16^4+8*16^3=56*16^3=56*2^12=224*2 ^10.
    3.第二步结果为字节B,需要转换为KB,因此除以1024,也就是2^10,最终得224KB。(38000H化成二进制为:111000000000000000=2^15+2^16+2^17=2^10(32+64+128)=224kB)

  • 第2题:

    下列不符合小学生社会认知发展趋势的是()

    A从表面到内部

    B从简单到复杂

    C从抽象思维发展到具体思维

    D从呆板的思维发展到灵活的思维


    C

  • 第3题:

    S1释放过程将使UE从()

    • A、ECM-CONNECTED到ECM-IDLE
    • B、ECM-IDLE到ECM-CONNECTED
    • C、ECM-CONNECTED到ECM-CONNECTED
    • D、ECM-IDLE到ECM-IDLE

    正确答案:A

  • 第4题:

    电子技术的发展将使器件速度从106次/秒到()次秒。

    • A、1010
    • B、1012
    • C、1011
    • D、1015

    正确答案:B

  • 第5题:

    U盘的存储容量越来越大,得益于()

    • A、通信技术发展
    • B、光纤技术发展
    • C、宽带技术发展
    • D、微电子技术发展

    正确答案:D

  • 第6题:

    道德评价能力是道德认识发展的标志,中学生道德评价能力的发展趋势表现为()。

    • A、从他律到自律
    • B、从结果到动机
    • C、从片面到全面
    • D、从态度到行为
    • E、从对人到对己

    正确答案:A,B,C,E

  • 第7题:

    S1释放过程将使UE从()

    • A、ECM-CONNECTED到ECM-IDLE;
    • B、ECM-IDLE到ECM-CONNECTED;
    • C、ECM-CONNECTED到ECM-CONNECTED
    • D、ECM-IDLE到ECM-IDLE

    正确答案:A

  • 第8题:

    单选题
    内存按字节编址从A5000H到DCFFFH的区域其存储容量为()。
    A

    123KB

    B

    180KB

    C

    223KB

    D

    224KB


    正确答案: B
    解析: 暂无解析

  • 第9题:

    单选题
    微电子技术的发展将使器件速度从()次/秒到1012次/秒。
    A

    109

    B

    108

    C

    107

    D

    1010


    正确答案: C
    解析: 暂无解析

  • 第10题:

    多选题
    国际结算的发展具体表现为()。
    A

    从现金结算发展到票据结算

    B

    从凭实物结算发展到凭单据结算

    C

    从买卖双方直接结算发展到通过银行进行结算

    D

    从大额实时结算发展到差额结算

    E

    从以国际贸易结算为主发展到以非贸易国际结算为主


    正确答案: D,B
    解析: 暂无解析

  • 第11题:

    单选题
    S1释放过程将使UE从()
    A

    ECM-CONNECTED到ECM-IDLE

    B

    ECM-IDLE到ECM-CONNECTED

    C

    ECM-CONNECTED到ECM-CONNECTED

    D

    ECM-IDLE到ECM-IDLE


    正确答案: B
    解析: 暂无解析

  • 第12题:

    单选题
    电子技术的发展将使器件速度从106次/秒到()次秒。
    A

    1010

    B

    1012

    C

    1011

    D

    1015


    正确答案: B
    解析: 暂无解析

  • 第13题:

    下列不符合幼儿动作发展规律的是( )

    A.从局部动作发展到整体动作
    B.从边缘动作发展到精细动作
    C.从粗大动作发展到精细动作
    D.从上部动作发展到下部动作

    答案:A
    解析:
    幼儿动作发展的基本规律包括:(1)从整体到局部规律(由整体到分化);(2)首尾规律(从上至下);(3)近远规律(由近及远);(4)大小规律(由粗到细,或者说由大到小)。

  • 第14题:

    第二次全面深化改革,经历了()

    • A、从“比较单一”到“全面综合”的发展
    • B、从“相对容易”到“艰巨复杂”的发展
    • C、从“浮在表面”到“攻坚深化”的发展
    • D、从“摸着石头”到“顶层设计”的发展

    正确答案:A,B,C,D

  • 第15题:

    微电子技术的发展将使存储容量和数据传输速率从()到1012

    • A、106
    • B、108
    • C、1010
    • D、109

    正确答案:D

  • 第16题:

    微电子技术的发展将使器件速度从()次/秒到1012次/秒。

    • A、109
    • B、108
    • C、107
    • D、1010

    正确答案:A

  • 第17题:

    简述微电子技术的发展历程、工艺技术和发展趋势。


    正确答案: 发展历程:微电子技术是指以研究、开发和生产以集成电路为核心的电子基础元器件的技术。
    1947年美国的贝尔实验室制成第一个晶体管,可以说是集成电路的发端。1958年美国科学家用硅材料制成含电阻、电容的集成电路。70年代后发展成大规模集成电路,80年代制成了集成度N>10万的超大规模集成电路。
    微电子工艺技术主要包括:氧化技术(在1000-1100度的高温下,硅单晶片在氧气中表面被氧化,形成与硅片粘附得很牢的二氧化硅保护层,它既是很好的钝化膜,也是很好的绝缘膜);二是光刻技术(包括照相制版、曝光显影、化学腐蚀等步骤),即采用紫外光在与硅片粘附的二氧化硅保护膜上刻出许多窗口,形成器件的图形。(这里最关键的是,二氧化硅很容易溶于氢氟酸而露出下面的硅,而曝光后的光刻胶却能抵抗氢氟酸的浸腐蚀);三是洁净技术(集成电路工艺技术极为精细,工艺操作必须在超洁净的环境中进行,需要设计专门的洁净室和洁净流水线)。
    微电子技术发展趋势是集成化、微型化、数字化、系统化和智能化。

  • 第18题:

    现代信息技术的发展,离不开微电子技术的应用。


    正确答案:正确

  • 第19题:

    单选题
    微电子技术的发展将使存储容量从109到()
    A

    1011

    B

    1012

    C

    1015

    D

    1010


    正确答案: D
    解析: 暂无解析

  • 第20题:

    单选题
    S1释放过程将使UE从()
    A

    ECM-CONNECTED到ECM-IDLE;

    B

    ECM-IDLE到ECM-CONNECTED;

    C

    ECM-CONNECTED到ECM-CONNECTED

    D

    ECM-IDLE到ECM-IDLE


    正确答案: B
    解析: 暂无解析

  • 第21题:

    单选题
    内存按字节编址从B3000H到DABFFH的区域其存储容量为()。
    A

    123KB

    B

    159KB

    C

    163KB

    D

    194KB


    正确答案: D
    解析: 暂无解析

  • 第22题:

    单选题
    U盘的存储容量越来越大,得益于()
    A

    通信技术发展

    B

    光纤技术发展

    C

    宽带技术发展

    D

    微电子技术发展


    正确答案: C
    解析: 暂无解析

  • 第23题:

    多选题
    第二次全面深化改革,经历了()
    A

    从“比较单一”到“全面综合”的发展

    B

    从“相对容易”到“艰巨复杂”的发展

    C

    从“浮在表面”到“攻坚深化”的发展

    D

    从“摸着石头”到“顶层设计”的发展


    正确答案: C,D
    解析: 暂无解析