范第姆特方程式主要说明（）A、板高的概念B、色谱分离操作条件的选择C、柱效降低的影响因素D、组分在两相间分配情况

题目

范第姆特方程式主要说明（）

  • A、板高的概念
  • B、色谱分离操作条件的选择
  • C、柱效降低的影响因素
  • D、组分在两相间分配情况
相似考题

1.分光光度法进行定量分析的依据和基础是()。A、朗伯-比尔定律B、范第姆特方程C、玻尔兹曼方程D、拉莫尔公式

2.范第姆特方程式主要说明()。A、板高的概念B、色谱峰扩张C、柱效率降低的影响因素D、组分在两相间的分配情况E、色谱分离操作条件的选择F、被测组分在色谱柱中的色谱行为G、色谱分离操作条件的确定

3.范第姆特方程式主要说明（）。A、板高的概念B、色谱峰扩张C、柱效率降低的影响因素D、组分在两相间的分配情况E、色谱分离操作条件的选择F、被测组分在色谱柱中的色谱行为

4.关于范第姆特方程式下列哪种说法是正确的()A、载气最佳流速这一点 ，柱塔板高度最大B、载气最佳流速这一点，柱塔板高度最小C、塔板高度最小时，载气流速最小D、塔板高度最小时，载气流速最大

更多“范第姆特方程式主要说明（）”相关问题

  • 第1题：

    在液相色谱中，范第姆特方程中的涡流扩散项对柱效的影响可以忽略。


    正确答案:错误

  • 第2题：

    根据气相色谱法中范弟姆特方程式H＝A＋B/u＋Cu，试举出至少二种影响柱效、峰扩张的因素，如填充均匀程度、载气流速、（）。


    正确答案:分子扩散、分子传质

  • 第3题：

    根据范第姆特方程式，下列说法正确的是（）

    • A、最佳流速时，塔板高度最小
    • B、最佳流速时，塔板高度最大
    • C、最佳塔板高度时，流速最小
    • D、最佳塔板高度时，流速最大

    正确答案:A

  • 第4题：

    根据范第姆特方程，色谱峰扩张、板高增加的主要原因是（）。

    • A、当u较小时，分子扩散项
    • B、当u较小时，涡流扩散项
    • C、当u比较小时，传质阻力项
    • D、当u较大时，分子扩散项

    正确答案:A

  • 第5题：

    简述范第姆特方程式中A、B/u、Cu三项代表的物理意义及如何控制这些因素来提高柱效。


    正确答案: （1）涡流扩散项（多径扩散项）：A固体颗粒越小，填充越实，A项越小
    （2）.纵向扩散项（分子扩散项）：B/u控制因素：为降低纵向扩散，宜选用分子量较大的载气、控制较高线速度和较低的柱温
    （3）.传质项：C〃u控制因素：减小填充物粒度、载气分子量及液膜厚度。固定液应完全覆盖载体表面但不可以太薄，否则柱子寿命短，k太小；T不可以超过固定液最佳使用温度。

  • 第6题：

    根据范第姆特方程，在填充柱色谱法中，固定相的填充均匀程度主要影响（）

    • A、气相传质阻力
    • B、液相传质阻力
    • C、涡流扩散
    • D、分子扩散

    正确答案:C

  • 第7题：

    单选题
    范第姆特方程式不能说明（）
    A

    板高的概念

    B

    色谱峰的扩张

    C

    柱效率降低的影响因素

    D

    色谱分离操作条件的选择


    正确答案： D
    解析： 暂无解析

  • 第8题：

    单选题
    根据范第姆特方程式，下列说法正确的是（）
    A

    最佳流速时，塔板高度最小

    B

    最佳流速时，塔板高度最大

    C

    最佳塔板高度时，流速最小

    D

    最佳塔板高度时，流速最大


    正确答案： B
    解析： 暂无解析

  • 第9题：

    单选题
    范弟姆特方程式H=A+B/u+Cu中，常数B代表（）
    A

    涡流扩散相

    B

    分子扩散相

    C

    分子扩散系数

    D

    传质阻力系数


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第10题：

    单选题
    根据范第姆特方程，在填充柱色谱法中，固定相的填充均匀程度主要影响（）
    A

    气相传质阻力

    B

    液相传质阻力

    C

    涡流扩散

    D

    分子扩散


    正确答案： C
    解析： 暂无解析

  • 第11题：

    单选题
    在液相色谱中，范第姆特方程式中的哪一项对柱效能的影响可以忽略不计（）
    A

    涡流扩散项

    B

    分子扩散项

    C

    流动区域的流动相传质阻力

    D

    停滞区域的流动相传质阻力


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第12题：

    单选题
    根据范第姆特方程，色谱峰扩张、板高增加的主要原因是（）。
    A

    当u较小时，分子扩散项

    B

    当u较小时，涡流扩散项

    C

    当u比较小时，传质阻力项

    D

    当u较大时，分子扩散项


    正确答案： C
    解析： 暂无解析

  • 第13题：

    根据范第姆特方程式，下列说法正确的是（）

    • A、h越大，则柱效能越高，色谱峰越窄，对分离越有利
    • B、固定相颗粒填充越均匀，则柱效能越高
    • C、载气流速越高，则柱效能越高
    • D、载气流速越低，则柱效能越高

    正确答案:B

  • 第14题：

    根据范弟姆特方程式，在高流速情况下，影响柱效的因素主要是（）

    • A、传质阻力
    • B、涡流扩散
    • C、柱弯曲因子
    • D、纵向扩散

    正确答案:A

  • 第15题：

    1956年荷兰学者范第姆特等人在研究气液色谱时，提出了色谱过程 速率 理论。并导出了范第姆特方程，其数学表达式为H=A+B/u+Cu，式中各项代表的意义是：A是（），B是（），C是（），u是（）


    正确答案:涡流扩散项/多径项；分子扩散项/纵向扩散项；传质阻力项；流动相平均线速率

  • 第16题：

    范第姆特方程式不能说明（）

    • A、板高的概念
    • B、色谱峰的扩张
    • C、柱效率降低的影响因素
    • D、色谱分离操作条件的选择

    正确答案:A

  • 第17题：

    在液相色谱中，范第姆特方程式中的哪一项对柱效能的影响可以忽略不计（）

    • A、涡流扩散项
    • B、分子扩散项
    • C、流动区域的流动相传质阻力
    • D、停滞区域的流动相传质阻力

    正确答案:B

  • 第18题：

    填空题
    1956年荷兰学者范第姆特等人在研究气液色谱时，提出了色谱过程 速率 理论。并导出了范第姆特方程，其数学表达式为H=A+B/u+Cu，式中各项代表的意义是：A是（），B是（），C是（），u是（）

    正确答案： 涡流扩散项/多径项,分子扩散项/纵向扩散项,传质阻力项,流动相平均线速率
    解析： 暂无解析

  • 第19题：

    填空题
    根据气相色谱法中范弟姆特方程式H＝A＋B/u＋Cu，试举出至少二种影响柱效、峰扩张的因素，如填充均匀程度、载气流速、（）、（）。

    正确答案： 分子扩散,分子传质
    解析： 暂无解析

  • 第20题：

    单选题
    根据范第姆特方程式H=A+B/u+Cu，下列说法正确的是（）
    A

    H越大，则柱效越高，色谱峰越窄，对分离有利

    B

    固定相颗粒填充越均匀，则柱效越高

    C

    载气线速越高，柱效越高

    D

    载气线速越低，柱效越高


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第21题：

    单选题
    根据范第姆特方程式，指出下面哪种说法正确（）
    A

    最佳流速时，塔板高度最小

    B

    最佳流速时，塔板高度最大

    C

    最佳塔板高度时，流速最小

    D

    最佳塔板高度时，流速最大


    正确答案： D
    解析： 暂无解析

  • 第22题：

    单选题
    根据范第姆特方程，在气相色谱高速分析中，当固定液的用量较大时，其色谱柱的塔板高度主要取决于（）
    A

    载气线速

    B

    涡流扩散

    C

    气相传质阻力

    D

    液相传质阻力


    正确答案： C
    解析： 暂无解析

  • 第23题：

    单选题
    范第姆特方程中，与色谱柱填料粒径大小有关的是（）
    A

    传质阻力项

    B

    纵向扩散项

    C

    涡流扩散项

    D

    以上三项都相关


    正确答案： D
    解析： 暂无解析

相关内容