A、DTL技术
B、TTL技术
C、CMOS技术
D、继电器技术
第1题:
光刻技术是集成电路制造工序中的核心工序之一,主要实现图形化,直接影响器件的性能。
第2题:
12、集成电路的制造工艺中需要采用隔离技术,常见的隔离方法有 。
A.外延隔离
B.埋层隔离
C.PN结隔离
D.介质隔离
第3题:
光刻技术是集成电路制造工序中的核心工序之一,直接影响器件的性能。
第4题:
《集成电路制造工艺》这门课程是培养集成电路工艺技术员、封测技术员的主要支撑课程。
第5题:
集成电路和分立器件芯片制造及封装测试的()、方法和技术。