A.变异来源不仅包含随机误差。此时,必须等待清除组间变异变大的情况后,才能使用SPC
B.其实只要将每小时芯片镀膜厚度之均值求出,对48个数据绘制单值一移动极差(I-MR)控制图即可
C.求出各小时芯片镀膜厚度之均值,对之绘制单值一移动极差(X-MR)控制图外,再绘制各小时的极差(R)控制图,三张控制图同时使用即可控制过程
D.解决此类问题的最好方法是使用EWMA控制图
第1题:
A.两样本F检验
B.两样本Levene检验
C.两样本配对差值的T检验
D.两样本Mann-Whitney秩和检验
第2题:
第3题:
第4题:
镀膜净化间规定每3小时记录一次温湿度。
第5题:
H车间质量监督部门负责测量芯片镀膜厚度,其生产规格是500±50μ(微米)。测厚仪在11年2月10日曾由上级主管部门进行过校准。为了监测此测厚系统的性能,从3月1日开始,每天早晨正式工作前,先对一个厚度为500μ的标准片连续测量5次,坚持检测30天,记录测量的偏差值,共得到150个数据。从数据上看,这30天的状况是受控的,所有的点都落入控制限范围内。计算后得知,这150个偏差值数据的平均值X=0.94μ,标准差为S=1.42μ,经单样本T检验,未发现偏差值之均值与0有显著差异。总之,整个测量系统的准确性(Accuracy)、精确性(Precision)及稳定性(Stability)都是合格的。这里“此测量系统的准确性(Accuracy)是合格的”指的是()。
第6题:
某车间的任务是将厚度为60毫米的厚钢板热压45毫米的薄钢板。为了检验厚钢板温度对于热压厚度是否有显著影响,选定了1220、1260、1300三种初始温度,各热压10块厚钢板,共记录了3组合计30个热压厚度数据。在分析时,准备使用单因子方差分析ANOVA比较三种初始温度下的热压厚度是否有显著差异,为此应考虑验证下列哪些条件:()
第7题:
芯片镀膜是某企业生产中关键的一步,为此必须对于镀膜厚度进行监控。通常将芯片固定在测试台后,由中心向外每45度画出射线将芯片分为等面积的8个扇形区域,在每个扇形内任意选取一点,测量出这8个点的厚度。现在生产已经相当稳定,为了维持它的稳定性,决定对于厚度的均值及波动都进行检测。这时,按国家标准的规定,控制图应该选用:()
第8题:
方差分析中,组间变异主要反映()
第9题:
这30天所有的数据点都落入控制限范围内
X=0.94μ这个结果与公差限范围±50μ相比,小于10%,满足GR&R要求
S=1.42μ这个结果与公差限范围±50μ相比,小于10%,满足P/T要求
对于150个数据进行单样本T检验,未发现偏差值之均值与0有显著差异
第10题:
个体差异
抽样误差
测量误差
随机误差
处理因素的作用
第11题:
等方差检验
双样本T检验
单样本T检验
第12题:
单因素方差分析组内变异反映了随机误差
配伍组变异反映了随机误差
组间变异即包含了研究因素的影响,也包含随机误差
成组设计的两样本均数的比较是单因素方差分析的特殊情况
配对设计的t检验是配伍组方差分析的特殊情况
第13题:
关于方差分析以下正确的有
A.单因素方差分析组内变异反映了随机误差
B.配伍组变异反映了随机误差
C.组间变异既包含了研究因素的影响,也包含随机误差
D.成组设计的两样本均数的比较是单因素方差分析的特殊情况
E.配对设计的‘检验是配伍组方差分析的特殊情况
第14题:
第15题:
第16题:
完全随机设计的方差分析中,组间变异主要反映( )
第17题:
芯片镀膜生产车间每小时抽5片芯片测量其镀膜的厚度,共检测了48小时,获得240个数据。经趋势图分析发现,各小时5片镀膜厚度之均值大体是稳定的,数据也服从正态分布。但发现各小时内的差异较小,但各小时间差异较大。六西格玛团队对如何进行SPC(统计过程分析)发生了分歧。正确的意见是:()
第18题:
在为芯片镀膜的生产过程中,膜厚是关键尺寸。为了监控镀膜的厚度,每间隔1小时在生产线上终端抽取1片芯片,每片测量3行3列共9个固定位置处的厚度并作为一个子组数据,希望建立相应有效的控制图,最佳的选择是:()
第19题:
为了判断A车间生产的垫片的变异性是否比B车间生产的垫片的变异性更小,各抽取25个垫片后,测量并记录了其厚度的数值,发现两组数据都是正态分布。下面应该进行的是()
第20题:
3组数据是否都满足独立性
3组数据是否都满足正态性
3组数据合并后满足正态性
3组数据方差是否相等
第21题:
随机误差
处理因素的作用
测量误差
个体差异
第22题:
使用Xbar-R控制图
使用Xbar-S控制图
使用p图或np图
使用C图或U图
第23题:
每一水平下总体的分布都是正态分布
各总体的均值相等
各总体的方差相等
各数据相互独立