某半导体芯片厂使用光电干涉法测厚仪测量芯片镀膜的厚度,公差限为100050A,生产过程实际标准差σ(P)=15A。测量仪器是数字显示的,考虑可能造成测量系统波动的原因一是不同的测量时刻,二是每次将样件装置于测量底架时的装上卸下的循环。现选用一片芯片,在三个不同时刻各进行装上卸下的3次循环,每次循环重复测量2次,则此时的再现性是指:()A.同一时刻同一循环的测量所得结果的一致性B.同一时刻不同循环的测量所得结果的一致性C.不同时刻不同循环的测量所得结果的一致性D.不同时刻同一循环的测量所得结果的一致性

题目
某半导体芯片厂使用光电干涉法测厚仪测量芯片镀膜的厚度,公差限为100050A,生产过程实际标准差σ(P)=15A。测量仪器是数字显示的,考虑可能造成测量系统波动的原因一是不同的测量时刻,二是每次将样件装置于测量底架时的装上卸下的循环。现选用一片芯片,在三个不同时刻各进行装上卸下的3次循环,每次循环重复测量2次,则此时的再现性是指:()

A.同一时刻同一循环的测量所得结果的一致性

B.同一时刻不同循环的测量所得结果的一致性

C.不同时刻不同循环的测量所得结果的一致性

D.不同时刻同一循环的测量所得结果的一致性


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    采用千分尺对钳工加工的工件进行测量,随机选取了20个工件和3名测量员,对测量结果的分析表明重复性标准差为2,再现性标准差为2,部件之间波动的标准差为10,从%P/TV的角度可以认为:()

    A.测量系统完全可以接受

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    D.无法判断


    参考答案:B

  • 第2题:

    位研究者使用智力测验对一个孩子进行了三次测量,每次的分数都不同,请问,这里智力分数的不同反映的是

    A.测量的随机误差
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    答案:A
    解析:
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  • 第3题:

    在做反相比例放大电路实验时,下面哪种情况可以判定741芯片损坏需要更换?

    A.芯片电源连接的正确,检查电路连接正确且没有断线,测量芯片的2,3 管脚电位不为0.

    B.芯片电源连接的正确,检查电路连接正确且没有断线,测量芯片的6 管脚电位不为0.

    C.芯片电源连接的正确,检查电路连接正确且没有断线,测量芯片的1 管脚电位不为0.

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    A

  • 第4题:

    采用游标卡尺对工件进行测量,随机选取了20个工件和3名测量员,对测量结果的分析表明σ(RPT)=2,σ(RPD)=6,σ(P)=10,%P/TV=53.45%,测量系统不合格。如果要对该测量系统进行改进,你认为可行的方法是:()

    A.测量系统不合格的原因是部件波动太小,应该加大部件的波动

    B.测量系统不合格的原因是重复性太差,需要换成千分尺重新测量

    C.测量系统不合格的原因是再现性太差,需要研究不同测量人员之间差异形成的原因

    D.测量系统不合格的原因是部件波动太大,应该减小部件的波动


    参考答案:C

  • 第5题:

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    错误