硅在高炉内的还原顺序是按SiO2→__________→逐级进行的。
第1题:
促进硅还原的措施有()。
第2题:
硅还原量与()和SiO2的活度成正比。
第3题:
硅的还原是在高炉的()或()上部才开始,达到()水平面时达到最高,此时铁中含硅量是终铁含硅量的()倍。
第4题:
高炉内氧化物在逐级还原的过程中()是最关键的。
第5题:
硅铁的含量越高,SiO2开始还原()亦越高,亦即还原越困难。
第6题:
促进硅还原的措施有;答案()
第7题:
根据高炉内硅还原的机理,降低生铁含硅的途径是:首先是降低软熔带位置、缩小熔滴带高度;其次降低风口前燃烧温度,直接减少SiO的发生量;三是应减少入炉的SiO2量,降低炉渣中SiO2的活度。
第8题:
下列()是硅还原的特点?
第9题:
1500℃以上硅的还原顺序为SiO2→SiO→Si,到达风口时[Si]含量达到最大值。
第10题:
根据高炉解剖研究表明:硅在炉腰或炉腹上部才开始还原,达到()时还原出的硅含量达到最高值。
第11题:
高炉内硅的还原顺序为()、()、()。
第12题:
冶炼低硅尘铁,适当提高炉渣碱度是因为()。
第13题:
硅的还原是()进行的。
第14题:
根据高炉解剖研究和高炉生产取样测定,都表明硅是在炉腰或炉腹上部才开始还原的。
第15题:
高炉内铁氧化物的还原与()为界,还原顺序不同。
第16题:
高炉内铁氧化物的还原是由高级向低级氧化物逐级还原的。
第17题:
随着钢液中硅含量的增加,脱氧产物将按下列顺序而变化:FeO+2FeO·SiO2→FeO·SiO2—FeO·SiO2→SiO2(s)。
第18题:
硅的还原是按()→()→()的顺序逐级进行的。
第19题:
硅的还原从滴落带开始,还原的途径有三种:渣铁反应、渣焦反应、气相SiO2还原,其中()是硅还原的主要途径。
第20题:
关于高炉内Si的还原叙述正错误的是()
第21题:
硅的还原顺序是SiO2→SiO→Si。
第22题:
高炉内影响硅还原的因素有哪些?
第23题:
硅在大于1500℃的高炉内的还原顺序是按SiO2→()→Si逐级进行的。