参考答案和解析
参考答案:错误
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  • 第1题:

    用水浸法检查工件时,通常用于产生横波的方法是()

    A.用纵波垂直于界面发射到工件中去
    B.用两个不同振动频率的晶片
    C.沿Y轴切割石晶英晶体
    D.适当地倾斜探头

    答案:D
    解析:

  • 第2题:

    探头前保护膜的声阻抗公式,(Z=声阻抗)应是()

    A.Z保护膜=(Z晶片+Z工件)1/2
    B.Z保护膜=(Z晶片-Z工件)1/2
    C.Z保护膜=(Z晶片xZ工件)1/2
    D.Z保护膜=(Z晶片/Z工件)1/2

    答案:C
    解析:

  • 第3题:

    【单选题】单晶直探头发射超声波时,是利用压电晶片的()。

    A.压电效应

    B.逆压电效应

    C.电涡流效应

    D.无法确定


    逆压电效应

  • 第4题:

    为了在工件中得到纯横波,对于斜探头的选择除了入射角以外还应考虑()

    A.斜楔材料的纵波声速小于工件中的横波声速
    B.斜楔材料的纵波声速大于工件中的横波声速
    C.斜楔材料的纵波声速大于工件中的纵波声速
    D.以上都可以

    答案:A
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  • 第5题:

    为了在工件中得到纯横波,对于斜探头的选择应考虑()

    A.合适的入射角
    B.合适的斜楔材料的纵波声速
    C.合适的斜楔材料的横波声速
    D.A和C

    答案:D
    解析: