含成氨生产中,半水煤气中氧含量变化 将引起变换触媒层温度剧烈变化,为了保证安全运行,解决触媒层温度调节系统的滞后现象可()。
A.后馈调节
B.中间调节
C.前馈调节
D.任意调节
第1题:
23#触媒为何要再生()
第2题:
触媒层温度突然下降,系统压力突然升高的原因是什么,不正确的是()
第3题:
为了获得较高的转化率,通常在转化器的最后一层用低温触媒,尽量将触媒温度降低,以接近平衡转化率。
第4题:
含成氨生产中,半水煤气中氧含量变化将引起变换触媒层温度剧烈变化,为了保证安全运行,解决触媒层温度调节系统的滞后现象可()。
第5题:
变换触媒硫化升温阶段,触媒层温度控制在150℃—220℃之间
第6题:
热交换器内漏的危害是什么,正确的是()
第7题:
因停车后,触媒处于保温保压还原状态,触媒温度能反映触媒槽内的变化情况,设备和管道泄漏及气体冷却系统会出现负压,这样空气将进入设备,时间久了若不注意,很可能造成触媒氧化燃烧,烧毁触媒烧坏设备,所以停车以后仍然要做触媒温度的记录,以便随时了解炉内温度的变化。
第8题:
含成氨生产中,半水煤气经脱硫,变换后还含有二氧化碳气体,他对合成塔内的触媒有()作用。
第9题:
过高;
过低;
波动;
第10题:
半水煤气负荷的变化
半水煤气的成份变化
半水煤气的温度
以下都不对
第11题:
对
错
第12题:
变换反应速度上升;
变换反应速度上升,反应热下降;
变换反应速度下降,反应热上升;
变换反应速度下降,反应热下降;
第13题:
调节触媒层温度的方法有哪些,正确的是()
第14题:
变换触媒层温度下降的原因有()
第15题:
饱和热水塔若液位()将增大系统压降,有时还会造成半水煤气带水,引起触媒温度骤变,多次带水将使触媒粉化和系统阻力增大。
第16题:
触媒层温度控制原则:()、()、()、()、()、()。
第17题:
影响催化剂床层温度的主要因素有哪些,正确的是()
第18题:
燃料层的料层过低不但使气化床遭到破坏,还会引起半水煤气中氧含量增高
第19题:
控制焦炉气中的氧含量原因是()。
第20题:
含成氨生产中,变换工段饱和热水塔液位的干扰主要是由()引起。
第21题:
后馈调节;
中间调节;
前馈调节;
任意调节
第22题:
保护触媒;
帮助反应;
无作用;
毒害
第23题:
提高床层温度
提高触媒活性
降低床层温度