更多“可摘局部义齿支架打磨抛光的要点不正确的是 ( )A、由粗到细B、压力适当C、注意降温D、走向一致E、 ”相关问题
  • 第1题:

    基托抛光后,其表面凹凸不平的主要原因是

    A、湿布轮使用不当

    B、细打磨时留下的磨痕

    C、粗打磨时留下的磨痕

    D、抛光时转速过高

    E、没有使用抛光膏


    参考答案:C

  • 第2题:

    整铸支架磨光中,操作错误的是

    A.打磨从磨光面到组织面

    B.打磨由粗到细

    C.打磨时要先切除铸道

    D.打磨时要随时变换打膳部位

    E.间断打磨以免产热过多引起变形


    正确答案:A

  • 第3题:

    打磨抛光塑料义齿时,错误的操作为 ( )

    A.尽量保持基托外形
    B.打磨过程应避免产热过高,导致义齿变形
    C.先打磨组织面,再打磨抛光面
    D.磨头应选择由粗到细
    E.随时变换义齿的位置和部位,使表面受力均匀

    答案:C
    解析:

  • 第4题:

    关于打磨力度大小叙述,正确的是

    A、粗磨>细磨>抛光

    B、抛光>粗磨>细磨

    C、抛光>细磨>粗磨

    D、粗磨>抛光>细磨

    E、细磨>粗磨>抛光


    参考答案:A

  • 第5题:

    可摘局部义齿支架打磨抛光的要点不正确的是 ( )

    A.先打磨再喷砂
    B.压力适当
    C.注意降温
    D.走向一致
    E.由粗到细

    答案:A
    解析: