全1：2义齿印模型的制作中，以下不正确的是A.在印模膏阴模的组织面和边缘刮除2mm 左右B.灌注的模型厚度不超过10mmC.用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线D.用刀沿上述连线刻一深1～1．5mm的沟E.沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm

题目

全1：2义齿印模型的制作中，以下不正确的是

A.在印模膏阴模的组织面和边缘刮除2mm 左右

B.灌注的模型厚度不超过10mm

C.用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线

D.用刀沿上述连线刻一深1～1．5mm的沟

E.沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm

相似考题

1.全口义齿印模型的制作中，以下不正确的是A、个别托盘制作是在印模膏印模的组织面和边缘刮除2mm左右B、灌注的模型厚度不超过10mmC、用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线D、用刀沿上述连线刻一条深1～1.5mm的沟E、沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm

2.全口义齿印模型的制作中，以下不正确的是A.在印模的组织面和边缘刮除2mm左右B.灌注的模型厚度不超过10mmC.用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线D.用刀沿上述连线刻一深1～1．5mm的沟E.沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm

3.全口义齿印模型的制作中，以下不正确的是A．在印模膏阴模的组织面和边缘刮除2mm左右B．灌注的模型厚度不超过10mmC．用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线D．用刀沿上述连线刻一深1～1．5mm的沟E．沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm

4.全口义齿印模和模型的制作中，以下不正确的是A．在印模膏阴模的组织面和边缘均匀地刮除2mm左右B．灌注的模型厚度不超过10mmC．用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后 2mm的连线D．用刀沿上述连线刻一深约1～1.5mm的沟E．沿上述的沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm

参考答案和解析
正确答案：B
全口义齿要用红膏制取功能性印模作为初印模，当用室温固化塑料制作个别托盘时用彩色笔在石膏模型上画出个别托盘的范围，其中上颌后堤区要放在软腭处超过颤动线(腭小凹后)2～3mm，下颌个别托盘应包括磨牙后垫及颌舌骨线，所以C内容正确。当用修改初印模的方法制作个别托盘时应该去倒凹并且在组织面和边缘刮去1～2mm，所以A内容也正确。全口义齿的模型要求边缘厚度为3～5mm，模型最薄处也不能少于1omm，所以B选项内容不正确。D和E为模型后堤区的处理内容均正确，故本题选B。考点：全口义齿模型的制取要点
更多“全1:2义齿印模型的制作中,以下不正确的是A.在印模膏阴模的组织面和边缘刮除2mm 左右B. ”相关问题

  • 第1题：

    一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是

    A．不做处理，让患者将义齿戴走

    B．腭杆组织面加自凝树脂重衬

    C．腭杆组织面缓冲

    D．取下腭杆

    E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆


    正确答案：C
    (答案：E)腭杆与粘膜间间隙过大，患者感觉不舒适，且容易嵌塞食物，应取下重新制作。

  • 第2题：

    全口义齿印模型的制作中，以下不正确的是

    A.在印模的组织面和边缘刮除2mm左右
    B.灌注的模型厚度不超过10mm
    C.用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线
    D.用刀沿上述连线刻一深1～1.5mm的沟
    E.沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm

    答案：B
    解析：
    全口义齿要用红膏制取功能性印模作为初印模，当用室温固化塑料制作个别托盘时用彩色笔在石膏模型上画出个别托盘的范围，其中上颌后堤区要放在软腭处超过颤动线（腭小凹后）2～3mm，下颌个别托盘应包括磨牙后垫及颌舌骨线，所以C正确。当用修改初印模的方法制作个别托盘时应该去倒凹并且在组织面和边缘刮去1～2mm，所以A也正确。全口义齿的模型要求边缘厚度为3～5mm，模型最薄处也不能少于10mm，所以B不正确；D和E为模型后堤区的处理内容均正确，故本题选B。

  • 第3题：

    全口义齿印模型的制作中，以下不正确的是

    A.在印模膏阴模的组织面和边缘刮除2mm左右
    B.灌注的模型厚度不超过10mm
    C.用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线
    D.用刀沿上述连线刻一深1～1.5mm的沟
    E.沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏，最宽处约5mm

    答案：B
    解析：
    全口义齿要用红膏制取功能性印模作为初印模，当用室温固化塑料制作个别托盘时用彩色笔在石膏模型上画出个别托盘的范围，其中上颌后堤区要放在软腭处超过颤动线（腭小凹后）2～3mm，下颌个别托盘应包括磨牙后垫及颌舌骨线，所以C内容正确。当用修改初印模的方法制作个别托盘时应该去倒凹并且在组织面和边缘刮去1～2mm，所以A内容也正确。全口义齿的模型要求边缘厚度为3～5mm，模型最薄处也不能少于10mm，所以B选项内容不正确。D和E为模型后堤区的处理内容均正确，故本题选B。

  • 第4题：

    一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是( )。

    A、取下腭杆

    B、腭杆组织面缓冲

    C、腭杆组织面加自凝树脂重衬

    D、不做任何处理

    E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆


    参考答案：E

  • 第5题：

    一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是

    A.腭杆组织面缓冲
    B.取下腭杆
    C.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
    D.不做处理，让患者把义齿戴走
    E.腭杆组织面加自凝树脂重衬

    答案：C
    解析：

相关内容