烤瓷熔附金属全冠的基底冠厚度至少为
A、0.1mm
B、0.3mm
C、0.5mm
D、1mm
E、2mm
1.非贵金属烤瓷全冠的金属基底冠厚度通常不低于A、0.1mmB、0.2mmC、0.3mmD、0.4mmE、0.5mm
2.非贵金属烤瓷全冠的金属基底冠厚度一般应为A、0.1~0.2mmB、0.2~0.3mmC、0.3~0.5mmD、0.5~0.7mmE、1.0mm
3.非贵金属烤瓷全冠的金属基底冠厚度应为A、0.05~0.1mmB、0.2~0.25mmC、0.3~0.5mmD、0.55~0.65mmE、0.2~0.8mm
4.金属烤瓷冠的基底冠厚度至少为A、0.1mmB、0.2mmC、0.3mmD、0.5mmE、1.0mm
第1题:
金属烤瓷冠的基底冠厚度至少为
第2题:
真空高温条件下金属基底上制作的金属-烤瓷复合结构的全冠
A.嵌体
B.半冠
C.烤瓷熔附金属全冠
D.桩冠
E.3/4冠
第3题:
第4题:
制作烤瓷熔附金属全冠底冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为
A.0.2~2μm
B.5~10μm
C.15~20μm
D.25~30μm
E.30μm
第5题: