更多“记存研究模型基底部分的高度为解剖部分高度的A、1/3~1/2倍B、5倍C、5~2倍D、5~3倍E、1/5~1/4 ”相关问题
  • 第1题:

    记存研究模型上下颌对颌后的总高度应约等于上颌模型高度的

    A、6倍

    B、5倍

    C、4倍

    D、2倍

    E、3倍


    参考答案:D

  • 第2题:

    记存研究模型基底部分的高度约为解剖部分高度的

    A、1/3~1/2倍

    B、1~1.5倍

    C、1.5~2倍

    D、2.5~3倍

    E、1/5~1/4


    参考答案:A

  • 第3题:

    记存的研究模型分解剖部分和基底部分,基底部分的高度约为解剖部分的

    A.1/5~1/4
    B.1
    C.1/3~1/2
    D.1/4~1/3
    E.1/2~2/3

    答案:C
    解析:

  • 第4题:

    用来记录存放的研究模型分为解剖部分和基底部分,基底部分的高度约为解剖部分的( )。

    A、1/5~1/4

    B、1/4~1/3

    C、1/3~1/2

    D、1/2~2/3

    E、1


    参考答案:C

  • 第5题:

    釉丛的高度为

    A.釉质的全厚

    B.釉质厚度的1/5~1/4

    C.釉梭高度的1/2

    D.釉板高度的1/4

    E.施雷格板高度的1/5


    正确答案:B
    (答案:B)记忆题。