记存研究模型基底部分的高度为解剖部分高度的
A、1/3~1/2倍
B、5倍
C、5~2倍
D、5~3倍
E、1/5~1/4
第1题:
记存研究模型上下颌对颌后的总高度应约等于上颌模型高度的
A、6倍
B、5倍
C、4倍
D、2倍
E、3倍
第2题:
记存研究模型基底部分的高度约为解剖部分高度的
A、1/3~1/2倍
B、1~1.5倍
C、1.5~2倍
D、2.5~3倍
E、1/5~1/4
第3题:
第4题:
用来记录存放的研究模型分为解剖部分和基底部分,基底部分的高度约为解剖部分的( )。
A、1/5~1/4
B、1/4~1/3
C、1/3~1/2
D、1/2~2/3
E、1
第5题:
釉丛的高度为
A.釉质的全厚
B.釉质厚度的1/5~1/4
C.釉梭高度的1/2
D.釉板高度的1/4
E.施雷格板高度的1/5