利用哪些阵列所建立的特征可以超过放置平面?()A.一般B.相同C.变化D.圆形
题目
利用哪些阵列所建立的特征可以超过放置平面?()
A.一般
B.相同
C.变化
D.圆形
相似考题
更多“利用哪些阵列所建立的特征可以超过放置平面?() ”相关问题
-
第1题：
将16个发光二极管均匀地分布在圆周可以通过阵列粘贴工具来实现，阵列粘贴在放置线性阵列时要设置行或者列间距，在放置圆形阵列时要设置角间距。
正确 -
第2题：
阵列时可以使用对话框中的（）选项使被阵列的特征形状发生改变。
对称 -
第3题：
6、对特征形成图样操作，不可以完成（）。
A．线性阵列
B．圆形阵列
C．多边形阵列
D．镜像特征
镜像特征 -
第4题：
7、创建阵列特征时，输入阵列成员数
A．包括原来特征
B．不包括原来特征
C．可以包括也可以不包括
D．以上说法都不对
包括原来特征 -
第5题：
10、基准点的用途有哪些？
A．作为建立其它基准特征的参考点
B．定义孔特征的放置位置
C．定义注释箭头指向的位置
D．辅助建立或调整复杂曲面
作为建立其它基准特征的参考点;定义孔特征的放置位置;定义注释箭头指向的位置;辅助建立或调整复杂曲面