单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（ ）。A 取下腭杆B 腭杆组织面缓冲C 腭杆组织面加自凝树脂重衬D 不做任何处理E 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
题目
单选题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（ ）。
A
取下腭杆
B
腭杆组织面缓冲
C
腭杆组织面加自凝树脂重衬
D
不做任何处理
E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
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第1题：
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是（）
- A、不做处理，让患者将义齿戴走
- B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
- C、腭杆组织面缓冲
- D、取下腭杆
- E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
正确答案:E -
第2题：
一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）
- A、不做处理，让患者把义齿戴走
- B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
- C、腭杆组织面缓冲
- D、取下腭杆
- E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
正确答案:E -
第3题：
单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法为（ ）。A腭杆组织面加自凝树脂重衬
B不做处理，让患者将义齿戴走
C腭杆组织面缓冲
D取下腭杆
E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
正确答案： D解析：
腭杆与粘膜间间隙过大，患者感觉不舒适，且容易嵌塞食物，应取下重新制作。 -
第4题：
单选题一患者上颌局部义齿修复，义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是下列哪项？（ ）A取下腭杆
B腭杆组织面做缓冲
C腭杆组织面加自凝树脂重衬
D不做任何处理
E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
正确答案： B解析：
可摘局部义齿的大连接体应该与承托区黏膜清接触，离开腭黏膜2mm，会导致在行使功能时出现义齿的食物嵌塞及义齿移位，为了修理后的腭杆与组织面密合，应该先去除腭杆，把义齿戴入患者口中后重新取印模，在模型上重新加腭杆。 -
第5题：
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是（）
- A、取下腭杆
- B、腭杆组织面做缓冲
- C、腭杆组织面加自凝树脂重衬
- D、不做任何处理
- E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
正确答案:E -
第6题：
单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（ ）。A取下腭杆
B腭杆组织面缓冲
C腭杆组织面加自凝树脂重衬
D不做任何处理
E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
正确答案： B解析： 暂无解析 -
第7题：
单选题一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。A不做处理，让患者把义齿戴走
B腭杆组织面加自凝树脂重衬
C腭杆组织面缓冲
D取下腭杆
E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
正确答案： E解析： 暂无解析 -
第8题：
单选题患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A取下腭杆
B腭杆组织面缓冲
C腭杆组织面加自凝树脂重衬
D不做任何处理
E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
正确答案： E解析： 暂无解析