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知识产权保护与管理实务
关于布图设计权产生的形式条件,通常包括()。A、该布图设计必须投入商业实施B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中C、布图设计应具有独创性D、受保护的布图设计必须办理登记手续
关于布图设计权产生的形式条件,通常包括()。A、该布图设计必须投入商业实施B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中C、布图设计应具有独创性D、受保护的布图设计必须办理登记手续
题目
关于布图设计权产生的形式条件,通常包括()。
A、该布图设计必须投入商业实施
B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
C、布图设计应具有独创性
D、受保护的布图设计必须办理登记手续
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