简述PECVD设备的特点。
题目
简述PECVD设备的特点。
相似考题
参考答案和解析
正确答案:P.ECVD设备的优点：
1）可以大面积均匀成膜、生长性好、能在较低的温度下形成致密的薄膜；
2）可防止热产生的损伤及相互材料的扩散；
3）可生长需要低温成膜及及反应速度慢的薄膜；
4）设备内的平行电极方便实现大面积化。
1）可以大面积均匀成膜、生长性好、能在较低的温度下形成致密的薄膜；
2）可防止热产生的损伤及相互材料的扩散；
3）可生长需要低温成膜及及反应速度慢的薄膜；
4）设备内的平行电极方便实现大面积化。