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集成电路制造工艺员
一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。A、产生一个离子并导向靶B、被轰击的原子向硅晶片运动C、离子把靶上的原子轰出来D、经过加速电场加速E、原子在硅晶片表面凝结
一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。A、产生一个离子并导向靶B、被轰击的原子向硅晶片运动C、离子把靶上的原子轰出来D、经过加速电场加速E、原子在硅晶片表面凝结
题目
一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。
A、产生一个离子并导向靶
B、被轰击的原子向硅晶片运动
C、离子把靶上的原子轰出来
D、经过加速电场加速
E、原子在硅晶片表面凝结
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