一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。A、产生一个离子并导向靶B、被轰击的原子向硅晶片运动C、离子把靶上的原子轰出来D、经过加速电场加速E、原子在硅晶片表面凝结

题目

一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。

  • A、产生一个离子并导向靶
  • B、被轰击的原子向硅晶片运动
  • C、离子把靶上的原子轰出来
  • D、经过加速电场加速
  • E、原子在硅晶片表面凝结
相似考题

1.与连续X线波长无关的是( )。A.阴极电子是否正撞到靶物质的原子核B.阴极电子从靶物质原子核旁经过时离原子核的距离C.阴极电子本身的能量大小D.原子核的核电场强度大小E.靶物质原子核外电子的结合能大小

2.Χ射线管中轰击靶产生Χ射线的高速电子的数量取决于（）A、阳极靶材料的原子序数B、阴极靶材料的原子序数C、灯丝材料的原子序数D、灯丝的加热温度

3.与连续X线波长无关的是（）A、阴极电子是否正撞到靶物质的原子核B、阴极电子从靶物质原子核旁经过时离原子核的距离C、阴极电子本身的能量大小D、原子核的核电场强度大小E、靶物质原子核外电子的结合能大小

4.X线特征辐射的产生是由于()。A、高速运动的电子作用于靶原子的外层电子B、高速运动的电子作用于靶原子的内层电子C、高速运动的电子作用于靶原子的原子核D、高速运动的电子作用于靶原子的光学轨道电子E、高速运动的电子作用于靶原子的内层电子和原子核

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  • 第1题：

    高速运动的电子在与靶金属的原子核外电场作用时，发射出（）。

    • A、溴化银微粒
    • B、增感作用
    • C、连续X射线
    • D、加速器中子源

    正确答案:C

  • 第2题：

    （）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。

    • A、溅射率
    • B、溅射系数
    • C、溅射效率
    • D、溅射比

    正确答案:A

  • 第3题：

    硅晶片上之所以可以产生薄膜，出始于布满在晶片表面的许多气体分子或其它粒子，它们主要是通过（）到达晶片表面的。

    • A、粒子的扩散
    • B、化学反应
    • C、从气体源通过强迫性的对流传送
    • D、被表面吸附

    正确答案:A

  • 第4题：

    对于非晶靶，离子注入的射程分布取决于（）。

    • A、入射离子的能量
    • B、入射离子的质量
    • C、入射离子的原子序数
    • D、靶原子的质量、原子序数、原子密度
    • E、注入离子的总剂量

    正确答案:A,B,C,D,E

  • 第5题：

    Χ射线管中轰击靶的电子运动的速度取决于（）

    • A、靶材的原子序数
    • B、管电压
    • C、管电流
    • D、灯丝电流

    正确答案:B

  • 第6题：

    X射线管中轰击靶的电子运动速度取决于（）

    • A、靶材的原子序数
    • B、管电压
    • C、管电流
    • D、灯丝电压

    正确答案:B

  • 第7题：

    X线的韧致辐射的产生是由于（　）

    • A、高速运动的电子作用于靶原子的内层电子 
    • B、高速运动的电子作用于靶原子的外层电子 
    • C、高速运动的电子作用于靶原子的原子核 
    • D、高速运动的电子作用于靶原子的内层电子和原子核 
    • E、高速运动的电子作用于靶原子的内层电子层电子 

    正确答案:C

  • 第8题：

    玻璃结构中，被两个硅原子所共用的氧原子称为桥氧，与一个硅原子连接的氧原子称为（）。


    正确答案:非桥氧

  • 第9题：

    SiF4中硅原子的杂化方式为（），分子中键角为（）；SiF62-中硅原子的杂化方式为（），离子中键角为（）。


    正确答案:sp3；109°28’；sp3d2；90°

  • 第10题：

    填空题
    玻璃结构中，被两个硅原子所共用的氧原子称为桥氧，与一个硅原子连接的氧原子称为（）。

    正确答案： 非桥氧
    解析： 暂无解析

  • 第11题：

    单选题
    X线特征辐射的产生是由于（）。
    A

    高速运动的电子作用于靶原子的外层电子

    B

    高速运动的电子作用于靶原子的内层电子

    C

    高速运动的电子作用于靶原子的原子核

    D

    高速运动的电子作用于靶原子的光学轨道电子

    E

    高速运动的电子作用于靶原子的内层电子和原子核


    正确答案： D
    解析： 暂无解析

  • 第12题：

    多选题
    以下哪些工艺应用的原子扩散的理论（）
    A

    渗氮

    B

    渗碳

    C

    硅晶片掺杂

    D

    提拉单晶硅


    正确答案： C,D
    解析： 暂无解析

  • 第13题：

    溅射法是由（）轰击靶材表面，使靶原子从靶表面飞溅出来淀积在衬底上形成薄膜。

    • A、电子
    • B、中性粒子
    • C、带能离子

    正确答案:C

  • 第14题：

    （）是因为吸附原子在晶片表面上彼此碰撞并结合所形成的。

    • A、晶核
    • B、晶粒
    • C、核心
    • D、核团

    正确答案:A

  • 第15题：

    用高能粒子从某种物质的表面撞击出原子的物理过程叫（）。

    • A、蒸镀
    • B、离子注入
    • C、溅射
    • D、沉积

    正确答案:C

  • 第16题：

    高速运动的电子在与靶金属的原子核外电场作用时，发射出连续X射线.


    正确答案:正确

  • 第17题：

    在电刷镀中的镀笔与工件接触的部位，镀液中的金属离子在电场力的作用下扩散到工件表面，工件表面的金属离子获得电子被还原成金属原子，这些金属原子在工件表面沉积结晶，形成镀层。


    正确答案:正确

  • 第18题：

    临床上使用的X线产生的方式一般是（）。

    • A、使用高电位差或微波电场加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射
    • B、使用低电位差或微波电场加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射
    • C、使用高电位差或微波电场加速电子后打到低原子序数物质的靶上，产生韧致辐射
    • D、使用高电位差或激光光波加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射
    • E、使用高温加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射

    正确答案:A

  • 第19题：

    X线产生的基本条件是（）。

    • A、电子源、加速电场和靶
    • B、电子源、真空盒和靶
    • C、加速电场、真空盒和靶
    • D、电子源、真空盒和加速电场
    • E、电子源、真空盒加速电场和靶

    正确答案:D

  • 第20题：

    在电场力的作用下，自由电子或（）所发生的有规则的运动称为电流。

    • A、分子
    • B、离子
    • C、原子
    • D、原子核

    正确答案:B

  • 第21题：

    单选题
    Χ射线管中轰击靶产生Χ射线的高速电子的数量取决于（）。
    A

    阳极靶材料的原子序数；

    B

    阴极靶材料的原子序数；

    C

    灯丝材料的原子序数；

    D

    灯丝的加热温度。


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第22题：

    单选题
    X线产生的基本条件是（）
    A

    电子源、加速电场和靶

    B

    电子源、真空盒和靶

    C

    加速电场、真空盒和靶

    D

    电子源、真空盒和加速电场

    E

    电子源、真空盒加速电场和靶


    正确答案： E
    解析： X线产生的基本条件是电子源、真空盒和加速电场。

  • 第23题：

    单选题
    X线的韧致辐射的产生是由于（　）
    A

    高速运动的电子作用于靶原子的内层电子 

    B

    高速运动的电子作用于靶原子的外层电子 

    C

    高速运动的电子作用于靶原子的原子核 

    D

    高速运动的电子作用于靶原子的内层电子和原子核 

    E

    高速运动的电子作用于靶原子的内层电子层电子 


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

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