二氧化硅层中的钠离子可能来源于()。
第1题:
被有机物质严重沾污的玻璃器皿可置于()的高温炉中加热15~30min。
A.100℃
B.200℃
C.300℃
D.400℃
第2题:
能够去除玻璃器皿中热原的方法有
A.高温法
B.酸碱法
C.超滤法
D.吸附法
E.反渗透法
第3题:
金属器材、玻璃器皿可用压力蒸汽和干热灭菌的方法,适用于耐高温、高湿的器械和物品的灭菌。
第4题:
分析工作者可能引入的沾污:香烟可能带来的沾污元素为()。
第5题:
去离子水中的阳离子主要是()。
第6题:
射孔施工中,射孔层段温度在()℃以下,使用常温射孔器材;在()℃之间,使用普通高温射孔器材;在()℃之间使用超高温射孔器材。
第7题:
低温淀积二氧化硅生长温度低、制作方便,但膜不够致密,耐潮性和抗离子沾污能力较差。()
第8题:
手脚沾污仪不可以对人体各部位进行()污染扫描测量。
第9题:
人体中钾离子含量大于钠离子。
第10题:
对
错
第11题:
第12题:
对
错
第13题:
玻璃器皿除热原可采用 ( )
A.高温法
B.蒸馏法
C.吸附法
D.酸碱法
E.凝胶过滤法
第14题:
哪些玻璃器皿不宜高温烘干或烤干?
滴定管、容量瓶、移液管等计量器具。
略
第15题:
关于脱氢注水下列说法正确的是()。
第16题:
在分析实验室常用的去离子水要求的检测项目是()。
第17题:
在放射性同位素示踪注水剖面测井中,示踪剂与油管内外壁、配水器等易形成沾污。按形成的机理,沾污可主要分为()两大类。
第18题:
射孔施工中,射孔层段温度在120℃以下,使用常温射孔器材;在120-160℃之间,使用普通高温射孔器材;在()℃之间使用超高温射孔器材。
第19题:
解决氧化层中的钠离子沾污的方法有()。
第20题:
试分析过热器沾污及高温腐蚀原因及减轻(或防止)过热器沾污及高温腐蚀的主要方法?
第21题:
外封堵漏器材的维护保养不包括()
第22题:
经常检查减压阀,是否能达到规定的压力
避免与火源接触,防潮,防止破损,避免高温
严禁沾污油脂,避免日光直接照射,以免橡胶垫老化,橡胶件制品长期不使用应涂上一层滑石粉,使用前,用清水洗清即可
保持干燥
第23题:
铅
铁
钾
氯离子
锌