为了解决中性束对注入均匀性的影响，可在系统中设有（），使离子束偏转后再达到靶室。A、磁分析器B、正交电磁场分析器C、静电偏转电极D、束流分析仪

为了解决中性束对注入均匀性的影响，可在系统中设有（），使离子束偏转后再达到靶室。